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吴传贵,张万里,刘兴钊,李言荣
(电子科技大学微电子与固体电子学院.四川成都610054)
BSR缓冲层的BST薄膜相比,BSR缓冲层可以使BST薄膜呈高度a轴择优取向生长,抑制了界面
10订Ccm-2K-1。
驰豫,提高了薄膜的介电常数,改善了薄膜的漏电流特性,其热释电系数为7.57X
这表明利用BSR缓冲层可以提高BST薄膜的热释电性能。
关键词:钛酸锶钡薄膜:缓冲层;铁电介电辐射计;热释电系数
中图分类号:TN213
ThinFilmsWith Buffer
Bao.6sSro.3sTi03 Bao.6sSroasRu03
HighPyroelectrie
WU Wan-li,LIU
Chuan-gui,ZHANGXing-zhao,LIYah-rang
andSolid·state ofElectronicScienceand
(SchoolofMicroclectrics ofChina,
Electronics,University Technology
NorthJianshe
Road,SichUall6]0054,China)
Chengdu
thinfilmswere RF witha thin
Abstract:Bao.6sSro.35T103(ssDdepositedby sputteringvery
on substrate.XRDshowthattheBSR
PVTVSi02/Si
Bao.6sSro.35Ru03(BSR)buffer patterns seeding-layer
BSTthin is a-axis withBSTthinfilms
affectedtheorientationof film,whichhighly textured.Comparing
onPt dielectricrelaxationcartbe anddielectricconstant
directlydepositedelectrode,the suppressed
increasedduetoa reductionofinterface vacanciesatBST/BSR
possible oxygen
measurementindicatesthat current ofBSTthinfilmson were
BSRbuffer reduced.
Ieakage density greatly
X
The COe缅cientofBSTth衲filmswithBSRbuf绝ris7.57l0qCcm-2K-。at atroom
pyroelectric 6V/ltm
reveal
results
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