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- 2017-12-22 发布于广东
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尾弧离子镀低温沉积技术的研究’
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1 前言
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介绍电弧离子镀的长 只沉积的豪理、找 ·、、一匕共欢果和发展前景
2.基本原理
众所T .材林科学的两条基本系退达:
I.材科的性能诀定于其派成和结玲
.ITJX;自然科学vt全入五p天欢只甲59;9:800 牡得到沈18币卜Ira^,
一「
2.材料的组成和结构决定于制备材料的工艺
结合薄膜的具体情况,它f可以表述为:
① 薄膜的性能决定于其组成和结构
② 薄膜的组成和结构决定于其制备_}二艺。
具体而言材料科学的基不原理在物理气相沉积 (PVD)薄膜上表现为,P,D
薄膜的结构依赖于基体温度T、与膜材熔点Tm之比丁犷丁二及镀膜时基片接受的煌个
粒子能量,即单粒子能量通-S:E?o
blovchan和Demchishin[2]最早提出了蒸镀金属薄膜的结构区域模型CSZNI
图〔1).Thomton[31将SzM,推广应用于溅射薄膜 (图2),并指出对于溅射薄
膜,存在具有细纤维状致密组织的过渡区CT区)。对于薄膜结构有影啊的参量是
T,和沉积室的气压。当几在一定收值范困内时,可实现薄膜组织向T区的转变
当T,过低对,缺少足够的能量使薄膜形成T类型的结构和足够强的膜/基界面结
合。因此,为得到T组织而采取的降低沉积温度的措施受到了化学热力学和结晶热
力学的限制。
Messier等(41发现,形成薄膜致密组织所需的T,的下限,随负偏压的增加而下
降。偏压的作用机理通常用沉积过程中低能离子的轰击效应来解释[5]0通过研究
证实了一系列低能离子轰击的微观效应,例如,增加形核速率6【,7],形成难熔和硬
质相[8],消除柱状
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