微波电子回旋共振筹离子体高速溅射装置的研制研究.pdfVIP

微波电子回旋共振等离子体高速溅射装置的研制 汪建华 (武汉化工学院) 喻宪辉 (湖北交通学院) 邹钦崇、任兆杏 (中科院等离子体物理研究所) 摘 要 研制了一种高速率溅射的ECR等离子体装里。微波经过一段真空波导管. 以反常波模式祸 合输入共振腔，腔内溅射把由平面靶和筒状靶组成，国筒状靶后面加了铁环 ，装皿的这种设计 方法使常规ECR溅射法在沉积薄膜中经常受到的两个限制一 徽波窗C污染和膜的沉积速率低 得到解决.并且 ，在2x10- 的低气压下 ，金属钢膜的沉积速率可达到1200A(min, 关键词 :ECR等离子体 离速溅射 双靶 傲波窗口 溅射是真空条件下沉积薄膜的最重要的工艺之一 。臼八十年代以来 ，磁控溅射方法在计算 机磁盘及其他器件中起若非常宜要的作用，它比DC溅射 ，RF二极滋射具有更高的沉积速率.然 而就这种方法沉积金属化合物而言，难以确足反应溅射。中的高沉积速率和完全反应的要求. 即改变薄膜的化学计t比，制作高质最薄膜是有困难的。为了控制薄膜的成分，IM体结构 ，A 拉小和缺陷，必须研究膜的制备技术 ， 开发新的薄腆制备方法。 徽波ECR等离子本方法来薄于可控核聚变研究中的电子回旋共振加热 (ECRH)技术。 经过 近二十年的研究和发展 ，八十年代逐步被开拓应用于材料科学中来。 用微波ECRM射技术已成功的制备出高质t的ZnO,AIN,A1,0a.TiN薄膜11,3I，然而，采 用常规的ECR溅射法在溅射过程中，金属拉子会板盖撇波抽入窗口，形响装t的正常工作.必 须要定时更换石英窗口。另一方面 ，由外磁场在腔内产生的磁通会穿过国筒靶表面.绕着磁力 线作画周成蛛旋运动的电子，很容易拢在腔里被复合消耗.便肥的做射速率低，形响了薄膜的 沉积率。为此.我们研制了一台新型的ECR溅射装t。本文介绍该软t的原理，结构和性能 研究了装里的溅射放电特性及在薄膜制备中的初步应用。 1 实验装皿及靶的结构特点 1.1 实验装t 由图可见，频率为 2.45GHZ的微波 ， 经过 垂直连接在共振腔壁上 的真空波导.以反常波 模式粗合进入腔内，图 中，共振腔长290mm， 直径为QI150mm， 共振 腔外绕有冷却腔体的通 图1 双靶结构的RCR从射装里 水钢管.腔内设里一平面靶4)120mm,圆筒犯070mm，长60mm放在共撮腔与沉积腔之间.靶座 和圆筒靶之间放有软铁环和不锈翎环，工作气体为Ar,犯材为Cu.共振腔内产生的等离子体由 发傲场引入沉积室，等离体诊断使用单探针，两把之间的距离可以调节。 1.2 磁控方式溅射用的国简犯结构 将筒状把设计成磁控戮射的方式，即利用磁场来改变电子的运动轨道将它较长时间地约束 在靶表面附近，这样不但可以减少电子的徽失和消耗，而且还可以增加它在靶上的运动路程. 使电子与尊离子体的碰恤几率和离化效率提高。 147 圆筒状溅射靶结构 一 一 、一 . 示于图2， 靶与一个连 4一一 -— 一~ _ 接地流电源的靶荃座相 接 ，并且用水冷却靶基 座 ，把由5个支持环支 撑 ，四个用软铁制作 ， 中间的用不锈钢制作。 由图可见 ， 由于利 图z 圆筒靶的结构和磁场的示惫图 用 了4个软铁支撑环， 1.园筒靶;2.铁环;3.不锈钢环; 发散磁场在靶表面上容 4.磁力线;5.局部磁场; 易形成局部磁场，此局 6.磁控管放 电区城 ;7.发散 磁场 部磁场有效地产生磁控放电 (ExB)。为了形成等离子体流仍维持发散磁场 ，局部磁场从靶表 面扩张很小，实验观察到放 电时，圆筒把表面有2个界限分明的明亮光环， 每条光环长度对应 着铁环的长度。这表明:把表面形成的局部滋场产生了磁控放电，在靶表面上形成了高密度的 等离子体。 13 电场镜一双把溅射结构 微波侧面愉入进入 共撮腔 ，对解决微波窗 口的污染是行之有效的 唯‘’。因为徽波愉入窗 口里子靶的死角 ，能避 免金爪拉子对窗口的污 图3有电场镜的ECR,射装ti中