磁控溅射和热还原退火法制备VO薄膜及其性能-本原扫描探针.PDFVIP

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2018-10-01 发布于天津
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磁控溅射和热还原退火法制备VO薄膜及其性能-本原扫描探针.PDF

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磁控溅射和热还原退火法制备VO薄膜及其性能-本原扫描探针

第卷第期合肥工业大学学报（自然科学版）３７１Ｖｏｌ．３７Ｎｏ．１　　ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＨＥＦＥＩＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹＯＦＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ年月　　　　　２０１４１Ｊａｎ．２０１４　　：／Ｄｏｉ１０．３９６９．ｉｓｓｎ．１００３５０６０．２０１４．０１．００８ｊ－磁控溅射和热还原退火法制备ＶＯ薄膜及其性能２，，，张元元李合琴胡仁杰李辉　　　　（，）合肥工业大学材料科学与工程学院安徽合肥２３０００９　：，摘要文章采用直流反应磁控溅射和热还原退火法制备ＶＯ薄膜研究了退火温度与时间对该薄膜相变和　２。（）、（）、、、性能的影响采用原子力显微镜ＡＦＭＸ射线衍射仪ＸＲＤ红外光谱仪ＬＣＲ精密电桥对薄膜的形貌结、。，，构组分光学性能和变温电阻进行了测试与分析实验结果表明溅射法制备的ＶＯ薄膜主要为ＶＯ相２２５／，，。经过氢气热还原退火后薄膜逐步转变为相电阻突变可达到个数量级５００ ℃ １２０ｍｉｎＶＯ２２：；；；；关键词氧化钒薄膜磁控溅射热还原退火法电阻温度系数相变中图分类号：文献标识码：文章编号：（）Ｏ４８４Ａ１００３５０６０２０１４０１００３４０４　　　　　　－－－