基于Gabor相位和局部二值模式的AAM纹理表示.pdfVIP

第 32卷 第 5期 系统工程与电子技术 Vo1．32 NO．5 2010年 5月 SystemsEngineeringandElectronics M ay 2010 文章编号 ：1001—506X(2010)05—1051—04 基于 Gabor相位和局部二值模式的AAM 纹理表示 苏 亚，高新波，王 博 ，王 宇 (西安电子科技大学电子工程学院，陕西 西安 710071) 摘 要：提出一种基于Gabor相位与局部二值模式(1ocalbinarypatterns，LBP)算子的活动表观模型(active appearancemodel，AAM)。与基 于亮度 的AAM相 比，改进模型在三个方面提 高了算法性能：提供多尺度多方 向 的Gabor纹理，提 高了模型的匹配精度；增强了对外部环境变化(如光照)的鲁棒性；基于LBP的纹理编码去除了 大量冗余。实验结果表明该模型能够有效提高模型的匹配精度 。 关键词 ：活动表观模型 ；纹理建模 ；Gabor相位特征 ；局部二值模式 中图分类号 ：TP391．41 文献标志码 ：A DoI：10．3969／j．issn．1001—506X．2010．05．037 GaborphaseandLBP basedtexturerepresentatiOn inAAM SU Ya，GAO Xin-bo，W ANG Bo，W ANG Yu (SchoolofElectronicEngineering，XidianUniv。，Xi’an710071，China) Abstract：Anactiveappearancemodel(AAM)basedonGaborphaseandlocalbinarypatterns(LBP)is presented．IncomparisonwiththeintensitybasedAAM ，theproposedmodelimprovestheperformanceinthree aspects：providingmulti-scaleandmulti—directionGabortexturewhichenhancesthefittingaccuracyofthemodel； improvingtherobustnessto environmentalchanges，e．g．，illumination；LBP basedtexturecodingreducesa largeamountoftheredundency．Experimentalresultsonvariousdatasetsdemonstratethattheproposedmodel caneffectivelyimprovethefittingaccuracy． Keywords：activeappearancemodel；texturemodeling；Gaborphasefeature；localbinarypattern 0 引 言 为了提高 AAM提取特征的精确度和可靠性 ，人们提 出使用多种方法来对纹理建模 以改善模型对光照的敏感 活动表观模型 (activeappearancemodel，AAMl1 )是 性 。例如，Cootes和 Taylor口提 出使用边缘强度信息作为 一 种描述可变形 目标 的生成模型。它类似于 EigenFace的 纹理 。他们引入梯度信息来表示边缘强度并对其进行非线 纹理模型 ]，并继承了活动轮廓模型(activecontourmodel， 性归一化 。由于梯度 中包含 了丰富的局部方 向信息，因而匹 ACM_5)和活动形状模型 (activeshapemodel，ASM[6)的 配精度和可靠性都随之增强 。其后 ，Stegmann和 Larsen~ 同