第3章纳米薄膜材料.ppt

纳米薄膜的分类 A：由纳米粒子组成(或堆砌而成)的薄膜。 B：在纳米粒子间有较多的孔隙或无序原子或另一种材料，即纳米复合薄膜 由特征维度尺寸为纳米数量级（1－100nm）的组元镶嵌于不同的基体里所形成的复合薄膜材料。 “纳米复合薄膜” 按用途可分为两大类： a:纳米复合功能薄膜 b:纳米复合结构薄膜 a:纳米复合功能薄膜：利用纳米粒子所具有的光、电、磁方面的特异性能，通过复合赋予基体所不具备的性能，从而获得传统薄膜所没有的功能。 电磁学性质 导电薄膜：Au, Ag, Cu, Al, NiCr, NiSi2, NiSi, CoSi2, TiSi2, SnO2 电介质薄：SiO2, CaF, BaF2, Si3N4, AlN, BN, BaTiO3, PZT(PbZr1-xTixO3) 半导体薄膜：Si, Ge, C, SiC, GaAs, GaN, InSb, CdTe, CdS, ZnSe 超导薄膜：YBCO (YBa2Cu3O7) 磁性薄膜： Co-Cr, Mn-Bi, GdTbFe, La1-xCax(Srx)MnO3 压电薄膜：AlN, ZnO, LiNbO3, BaTiO3, PbTiO3　 b) 光学性质 吸收，反射，增透膜： Si, CdTe, GaAs, CuInSe2, MgF 发光膜： ZnS, ZnSe, AlxGa1-xAs, GaN, SiC 装饰膜：TiN/TiO2/Glass, Au, TiN b:纳米复合结构薄膜：通过纳米粒子复合提高机械方面的性能 a) 硬度，磨损，摩擦 TiN, CrN, ZrN, TiC, CrC, ZrC, Diamond b)腐蚀 Au, Zn, Sn, Ni-Cr, TiN, BN 金属／绝缘体、半导体／绝缘体、金属／半导体、 金属／高分子、半导体／高分子 3.2 纳米薄膜材料制备技术 常用的几种加热器形状 实验方法： 基体为普通玻璃片和不锈钢片,尺寸大小为25 mm ×15 mm。超声波清洗机预处理后的基片固定在镀膜机内的支架上； 蒸镀实验步骤: 1)基片清洗以及安装：对薄膜基片，先用水洗掉灰尘，再用超声波清洗干净，取出后用高纯度氮气吹干，把干净的基片放在样品架指定位置。 2)镀膜材料的准备，安放在蒸发用坩埚内。 3)盖好钟罩，抽真空，达到蒸发镀膜的真空要求（10-4Pa左右）。 4)开启坩埚的加热电源，烘烤样片。 5)预熔镀膜材料。 6)移开基片的挡板，设定样片基片的加热程度，把蒸镀材料加热到一定温度（熔点以上），开始蒸镀。 7)蒸膜厚度达到要求以后，把挡板拨回原位，依次关闭镀膜材料、基片的加热电源，等基片冷却到室温左右，关闭真空泵，开启钟罩，取出样片进行测试。 实验步骤 衬底的清洗: 在装样品前, Al2O3 衬底先浸入NH40H/ H2O2/ H2O 混合液去除颗粒、0. 5 %稀盐酸去除金属污染、热蒸馏水( 约60 ℃) 漂洗,然后热氮气吹干。 先驱膜沉积:抽真空，在Al2O3 衬底上蒸镀第一层Mg(150A) ,再蒸镀第二层B(100A) ,然后继续交替进行,最后一层为B。各层Mg 和B 厚度按照组分1 :2 的比例,使先驱膜厚度约为3150A。（考虑到Mg 极易挥发,在此阶段衬底没有加热） 原位后热处理:先驱膜沉积结束后,往真空室内充入纯度为99. 99%的Ar至150Pa 氩气氛,然后对衬底进行加热,升温至630 ℃并保持30 分钟,最后切断加热电源,自然冷却至室温。 在激光加热方法中，需要采用特殊的窗口材料将激光束引入真空室中，并要使用透镜或凹面镜等将激光束聚焦至被蒸发材料上。针对不同波长的激光束，需要选用不同光谱透过特性的窗口和透镜材料。 激光加热方法特别适用于蒸发那些成分比较复杂的合金或化合物材料，比如近年来研究较多的高温超导材料YBa2Cu3O7等。 优点： (2)溅射制膜技术的应用 ①溅射制膜法适用性非常之广。 就薄膜的组成而言，单质膜、合金膜、化合物膜均可制作。 就薄膜材料的结构而言，多晶膜、单晶膜、非晶膜都行。 若从材料物性来看，可用于研制光、电、声、磁或优良力学性能的各类功能材料膜。 对不锈钢零件表面进行强化处理,镀覆Ti (C ,N) 膜可提高零件的耐热、耐蚀性能,从而延长其使用寿命。 Ti (C ,N) 膜层中的碳元素在氧化时容易与氧结合,而释放原先结合的钛,这有助于TiO2 的形成。在氧化过程中形成了TiO2 致密层,它有效防止了氧向基体的扩散和基体中铁离子向外边面的扩散。 ⑤可以控制沉积层的密度和纯度。 ⑥绕镀性好，可在复杂形状的基体上及颗粒