低气压等离子喷涂B4c涂层工艺研究.pdfVIP

低气压等离子喷涂R4C涂层工艺研究 隋毅峰 陈俊凌 梁荣庆 何也R (中国科学院等离子休物理研究所，合肥 230031) 摘要:R,C涂屏提供了低2(f,子序数)和稳定的耐fn表而.在不锈钢fi(}^]合余篆片 卜直接果用低 气trA,. 了喷徐法实Ikl200-300p.厚的BIC涂F,,是一什9济快速日有效的M--V制造1一艺 通 刊对默响n厂滩层质母的诸11下艺参数进行I.化，存A度和气氛可神的条刊下实现抗热冲击性能良 好的R,C涂P.i##Yt尽)Y于作为核聚变装青第一0耐等离子冲刷的保护涂层 关钵词 f气吓 竿 一R? IfAll子喷涂 几c汾层， 燕燕燕..ptr,.愉侧化和fit化拄术已成为磁约柬核絮1}实聆 首常用的毕镌练方诀 归确化n创交鹅(- 般0有11.!,ri)作高功T-,稳六运行的大f1核变布聆装胃高通用0R件F.稠化何QtAY{若Tti.: 其卒 次放电中披9蚀悼 只有作高通衍部件 卜果用+n-壁原位翩化与R,C(或Sic)永久厚膜涂层0 米柏结合、才Tip保证在挽定的长平顶阶段对大M分杂质及而循环的神制 目下7[I全翘导大T1托竞马克核聚变实P装W是TI-在中国科学院等离子休物理所设计建造的 九 T’，r}1家-kPITWTr!T-I，Ylf*iTTIT-711装W,IEu冲稚态运行物T4p标的实IT,_ Mi}-T}FIT-7UV, w竿 T!?}u_rm?nnznnnmt}tihR,cy(4}Yf层层.ArJ-YJTT-71t铃胃欲-!ti?;I(iA;t,T中的类说1 艺之 . 允R,J1,}I17TIP67M..#tii1tr)t.R的优质84(-涂层、Nr.to.速率存句小时100Iim以 卜、这在 m内尚属难A 等离T**是实现厚膜涂层的一种有效方洪，但等离子崎}t碳化物的易氧化问题、 畏喷涂过TI的一个f}手问题 只有在真空环境下做到气氛可神才能解决这个问题nl此外、为提 高涂层的阳着力.还必项对篆片进行冷却，做到某片混fro可羚 低气压等离子喷涂的工艺特点 图1.为恨据需VII,计的真空室。为保持喷涂时的一定真空度、其抽气机织需纤过设训一计份后选 [,1I为恨据需UR计的真空室 汗.为除失抽除气休甲的灰尘污染真空机f.需作抽气接门前tAil油器.由千穴空贪内减压饱钊 y.}的什m种仲低iRm离子喷汾的#s流Yc度大1;fm加.常环1;等All了m涂始流的rU!一般为a- 。 而低气汗冲窝户ras的悄流r度则可达an一，cm}n, — 218 一 低气压等离r}I}涂L7在K气环境下的S离子n}涂41比具有以曰尤点: 门1由丁作减压拚件气氛F进行喷涂，气化和氮化m化7反rl可稠到拎制; 2「、邻离了始流的增长.一方而.使同时喷涂的表而积增加.提高了喷涂效牢 另 一方而 no涂TI 离的微小变比不会明早影响喷涂质用 门、由丁直宁常I+1P}汗的作用t显茶地扩大竹离子焰流的高濡区域使等阵子焰的引入速度明显增 处 田此.涂层的气孔卒isk小 司得到T,加致}nf结合力强的涂k n,C涂层工艺的优化 a!二材州作介气气氛小(,0Q吐以}将发牛气(才、} 形成玻碑态的n,n_ f3,C:7solid)+4(),(pa)--2R}0,(snlid)}{(}z(aas) 产祈常的个勺垮离子晾汾时 山T高凉辞禽f掐流1i阁用气怅的Ih叶掉(钊1l竹对价流周围的气 }RV油动作Ifl 读1}!}0h}T棺融状态的RIC嗽t}L,N围气气中i11V气uf溉气发十反r..发,}气!h filit戍氢化物 h;别早et?j杰的 R，0对汾层所q的影响竹为00T..为荻M忧.r的nC涂r-,mpl 子啼徐IF存含气带极低的{七学惰什气氛中进行、喷涂前需将衰空室预抽到一定的直空度.然后充入 01气 以确俱q余ti,的浓度低于anppm(以休积计)M 中气竿窝