聚焦离子束诱导沉积铂的电阻率特性研究.pdfVIP

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2018-01-11 发布于广东
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聚焦离子束诱导沉积铂的电阻率特性研究.pdf

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2005年12月第十三届全国电子束·离子束·光子束学术年会湖南·长沙聚焦离子束诱导沉积铂的电阻率特性罗强金爱于杨海方顾长志 (中国科学院物理研究所微加工实验室，北京100080) 摘要：聚焦离子束技术常被用于集成电路的修整与失效分析，通过切断某些金属连线和诱导沉积新的金属连线来测试所设计电路的特性。在低维材料的电输运性质研究中，它也常被用于制作微电极。因此，在这些应用中。采用聚焦离子束诱导沉积的金属本身的电学性质变得比较重要。在本文中，我们采用聚焦离子束诱导沉积方法制作了不同尺寸的铂线条，并测量了其电流一电压曲线。实验结果表明，所选用的束流密度对沉积的铂的电阻率有较大影响．当选择适当的束流密度进行沉积时，可获得最小的电阻率，束流密度过大或过小都将导致其电阻率变大。关键词：聚焦离子束诱导沉积；铂；电阻率 The of focusedionbeam resistivity propertiesplatinumdepositedby Luo，Ai-zi Gu Qiang JiIl，Hai-fangYang,Chang-zhi of of ofSciences LaboratoryMicrofabfieation，InstitutePhy8ics，ChineseAcademy ofChina 100080。Peoples Beijing Republic Abstrace：Focusedion to is used circuitsin beam(FIB)technology med曲integrated commonly some designsby metaltracksand newmetalconnections．Itis debugging disconnecting depositing to al∞usedfabricatemicro—electrodesforelectriealcharacterizationoflowdimensionmaterials．So fabricatedmetal theelectrical ofthe ionbeaminduced by depositionOBID)becomes property quite withdifferentwidthWefabricatedIBID important．Inthis咖dy，platinum任均straps by method， andtheirI-VcharacteristicsWerealso resultsshowthatbeammnTeut Can performed．The