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结合自组装单层的亚稳氦原子光刻技术 巨新 南京大学物理系，南京210093 摘要：采用不同网格尺寸的透射电镜铜网作为掩模，采用烷烃硫醇类小分子自组装单层作为光刻 胶，光学质量的云母为衬底，用亚稳氦原子光刻技术制备具有纳米台阶的金膜图形。通过原子力显微 镜分析，证明：这种技术可以将具有纳米台阶的正负图形可以很好的传递到金膜。具有高的可信度。同 时。在不同时的实验中光刻图形的重复性很好。 关键词：原子光刻，掩模，白组装单层 1．引言 在原子光学下进行纳米制造可以通过两种途径进行：原子的直接沉积和原子光刻。对于这两种方 法，具有一meV量级动能的中性原子束可以使人们避免来自库仑排斥效应并忽略在常规光学和荷能带 电粒子光刻技术中出现的衍射限效应。如果人们可以引人更为复杂的磁或电场梯度构成一个真实的 而不仅仅是目前可达到直线的掩模图形，直接沉积技术将变的十分有潜力“J。光掩模的原理是用一个 横向驻波光场规划亚稳原子的通过。在过去几年中，曾有研究者利用该方法在表面上制备了纳米结 构，例如：一束聚焦Gaussian激光被用作模板在钠原子束中制备了毫米量级的图形，证实了周期性纳 米图形可望直接沉积在硅晶片上口棚。其他种类的亚稳原子，如铬嗍，铝…等，也可获得上述结果。在最近 的研究中，人们利用了两束交迭的激光构成光掩模，其中一束构成一系列单立频率成份，且与氩原子 的激发能近似匹配；另一束则横截原子束的势梯度，在空间的特定点共振移动原子，在这些点原子回 落到基态。用这种技术，掩模的分辨率不受光学衍射的限制M。另一方面，亚稳原子光刻是下一代光 next 刻(1he geheration 氖【12和铯[m-m]等，以及自组装单层(self-assembledmonolayers，SAM)为胶，已被实验证明可传输刻蚀具有 小于100纳米的台阶分辩的金图形。亚稳原子光刻中的物理掩模是那些具有微纳米尺度的各类模板。 如精细金属网，介观材料等。污染原子光刻是一个特殊的情况，碳氢化合物蒸气或SAMt啊可以转化为 子光刻技术在沉积在云母上的金膜进行纳米刻蚀的结果，同时研究了光刻图形的掩模效应。 2．实验 实验装置叫见图1。简述如下：He*源运行在直流放电模式下。样品室的气压为一5xl旷Pa．放电 时，工作气压大约为2—3xl矿Pa．。一个横向电场施加在原子束上，用于除去离子或电子，偏转电压约 为一1000V，这是因为在曝光期间可引起SAM的损伤。氦束通过直径为加．7m／n的隔离器导向一个可 旋转的钽样品架。距离为26．5cm，本身为三角体，两面用于安装样品，另一面检测原始束的强度。掩 模和SAM之间的距离是0．1iTlnl。亚稳原子通量由测量亚稳原子诱导电子发射来估算。在样品或钽板 处测量的电流典型值分别为-30nA和一80 一267— 2005年12月 第十三届全国电子束·离子束·光子束学术年会 湖南·长沙 Ar+gun TM．P T．M．P SPMDS (1000 chamber I／s)(250Vs) experimental Fig．1：The setup 实验程序如下：对光学质量的白云母片在350 nm金 oc下热处理三小时，然后争端蒸镀20_30 mM 12一烷烃硫醇的乙醇溶液中 膜，可获得原子平整表面的Au(111)样品；自然冷却后取出立即浸人2 24小时，可在表面形成SAM；取出用乙醇清洗，将作为掩