聚变堆中偏滤器部件等离子喷涂钨基涂层的制备和性能评价研究.pdfVIP

材料科学 聚变堆中偏滤器部件等离子喷涂钨基 涂层的制备和性能评价 宋书香周张健都娟 葛昌纯 北京科技大学特陶中心，北京，100083 摘要金属钨由于具有高熔点，高的溅射阈值，抗冲蚀性好等的优良性能，已被选为聚变堆 中偏滤器部件的面对等离子体材料．本文采用大气等离子喷涂技术，在惰性气体的保护下， 在无氧铜的基体上制备了钨涂层．研究了不同中间层(NiCrAl，WCu)及不同粒径的原始粉体 对涂层性能的影响．用扫描电子显微镜、能谱分析仪、X射线衍射仪、硬度仪以及万能拉伸 仪等对涂层的性能进行分析测试。结果显示：涂层中没有检测到氧化现象；原料粉体的粒径 大小对涂层的微观结构有较大程度的影响；拉伸试验发现没有中间层的涂层具有更好的结合 强度． 关键词金属材料；第一壁材料；等离子喷涂；钨 前 言 国际热核聚变研究组织已经决定选择钨作为国际热核聚变试验装置(删t)中偏滤器部件的面对等离子材 料I卜41。因为在聚变堆中，偏滤器要承受严酷的热负荷，而钨在所有材料中具有最高的熔点和最低的蒸汽压，相 对与低原子序数而言，金属钨还具有低的腐蚀率和低的氚滞留阎。金属铜是没有氢脆的金属，具有良好的热导 性和塑性加工性能。把二者复合起来，可成为极好的热沉材料。但因钨自身的重量和脆性，以及和基材铜的连 接问题，使钨块材在聚变堆中的应用受到限制。因此，在铜上制备钨涂层用于偏滤器中面向等离子材料引起了 广泛关注。采用涂层技术有许多优点：如成本较低、可制备较为复杂的部件，同时还可以把第一壁材料钨和热 沉材料铜直接连接在—起。目前制备钨涂层的常用方法主要有化学气相沉积、物理气相沉积以及等离子喷涂等。 作者Srnid阍对钨和热沉材料连接后作为面向等离子材料做了较为详尽的综述。文献n81利用化学气相沉积技术制 备的钨涂层具有极好的抗热冲击性能和热疲劳性能。但化学气相沉积技术工艺复杂，沉积效率低，厚涂层不易 制得，成本较高，且制备过程中有较大的污染。和C、m—w相似，物理气相沉积也同样具备低的沉积效率和高 的制备成本【9】。而大气等离子喷涂相对于其他涂层技术具有独特的优势：操作简单易行，具经济可行性；沉积 效率高，易于制备厚涂层；涂层为层装结构，不易产生贯穿的气孔；而且还易于对等离子束破裂等异常情况下 第一壁融化和损坏的部件进行原位修劐¨o】。 但是等离子喷涂钨还存在一些不足：如在喷涂过程中容易氧化，涂层具有较大的气孔率，以及和热沉材料 的连接等问题。因此，研究不同因素对涂层性能的影响，对综合改善聚变堆中偏滤器部件的钨涂层的性能具有 重要的意义。 本文采用大气等离子喷涂技术，在惰性气体的保护下，在无氧铜的基体上制备了钨涂层。利用不同粒径的 原始喷涂粉体，以及在涂层和基体之间引入不同的中间层，研究影响涂层性能的因素。用扫描电子显微镜、能 谱分析仪、x射线衍射仪、硬度仪以及万能拉伸仪等对涂层的微观结构和性能进行分析测试。试验表明采用惰 性气体保护下的大气等离子喷涂工艺制备的钨涂层具有优良的性能。 493 中国科协第四届优秀博士生学术年套论文莱 l实验方法 I．I试验原料 丰试验所选喷弥原料均为市售粉体；其中钨原始粉体平均粒径分别为I^岬，28“m和50pro纯度：姒9％； 铜圆片为基村， 1．2样品制备 I。在唢涂过程中，轴以瓴气用作保护气体，用来冷却基材和避免喷弥过程中基材和淙层的窜【化。 寰1等离子啧涂掌擞 管堵塞；基体经过石英砂喷砂预处理．再经丙j酗*洗。 为了考察不同的中问层对结合强度的影响，制备了三种不同中间层的样品。图I是样品结构示意图，其中(劬 三种样品中凉层的厚度和中问层的厚度均为200岬 W W Coating Coating r———————————————1 邕鲨邕鲨瞄的 髓瑟盈矗一日墨口一圈墨翟匿潮 (a} Ib)