聚合单体对制备SiOx高阻隔性薄膜性能的影响研究.pdfVIP

聚合单体对制备SiOx高阻隔性薄膜性能的影响 周美丽，陈强，岳蕾，葛袁静 (北京印刷学院等离子体物理及材料研究室，北京102600) 摘要：本文论述在食品包装保质保鲜方面，对普通包装基材PET、BOPP等表面采用等离子体化学气沉积一 层纳米级透明的SiOx层高阻隔层。实验采用13．56MHz的射频等离子体装置。分别以四甲基二硅氧烷(TMDSO) 和六甲基二硅氧烷(斓DSO)为单体、氧气为反应气体、氩气为电离气体，在载玻片、单晶硅片、PET、BOPP 等包装基材上沉积硅氧阻隔膜。比较了不同单体在制备氧化硅阻隔膜时各种工艺参数的影响。通过傅立叶红 外谱仪(FTIR)分析、扫描电子显微镜(SEM)表征，研究沉积膜的化学组成和结合状态；采用透湿测试仪 测试薄膜的透湿性能，研究工艺参数的变化、表面的结构变化、形貌改变等对薄膜的阻隔性能影响原因。 关键词： PEcvD四甲基二硅氧烷(TMDSO)六甲基二硅氧烷(mmso)高阻隔性薄膜 中图分类号：TB484．3 Abstract：Inthis thecharacterizationofsilicon onPETsubstrates paper，weinvestigated oxide(Si02)films by chemical for barrier filmswere plasma-enhancedvapordepositiontransparentapplication。Thepreparedby interelectrode andonconditionswithcarrier andmonomer1，1，3， capacitivelycoupledtypeapparatus gasAr2，02 of 3--Tetramethyldisiloxane(TMDSO)orHexamethyldisiloxane(HMDSO)，dischargefrequency13．56．Compared withthedifferent film as and monomer，theproperties，suchcomposestnlctIlre，roughness，watervapor transmission transmission differencewiththe contentand rate(WVTR)andoxygen rate(OTR)arc oxygen power ofthin value．Thecharacteristicsfilmswere Fouriertransforminfrared investigatedthrough adsorption scanelectron spectroscopy(FTIR)andmicroscope(SEM)． 低温等离子体的能量在1eV～10eV之间，非常适合打开高聚物单体的官能团键，因此便 于进行化学聚合反应。同时采用等离子体聚合反应不受单体制约、聚合薄膜的性能优异以及 化学气相反应也没有二次污染等诸多优点，使其已广泛用来制备许多的功能薄膜材料u”4， 如生物材料嵋1，大规模集成电路材料。“，光电薄膜哺1以及生物传感器材料等。传统的阻隔包装 材料主要采用的是高聚物复合加工、多层共挤和镀铝等方法。此类方法存在软化点低，热稳 定性差、吸湿及难以加工等缺点，并不能直接用于微波加热，难以满足包装材料发展的新要 求。采用普通包装材料表面沉积无机材料，女HSiOx薄膜，利用其阻隔性高、微波透过性好等 特点，在药品、微波加热食品等保值保鲜包装领域可以取代传统的包装，目前尤其受到重视。 国外于上世纪80年代就已经开始了在塑料薄膜上制备Siox膜层的研究，并于上世纪末在发达 国家投入市场。这种膜以其超薄、高阻隔性和环保等优点在包装业中表现出了强大生命力。 目前Siox薄膜的制备主要是热蒸发，其缺