吴国松(石墨烯).pptxVIP

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吴国松(石墨烯)

石墨烯(graphene);石墨烯的定义介绍;由石墨烯包裹形成的零维富勒烯(C60)、卷曲形成的一维碳纳米棒、堆叠形成的三维石墨;石墨烯的功能特性及应用;石墨烯的制备方法;机械剥离法;外延生长法;化学气相沉积法(CVD);石墨插层法;剪裁碳纳米法;氧化石墨烯的化学还原和热还原; 葡萄糖还原法 ;电化学法;利用扫描探针技术(原子力显微镜)直接制备石墨烯条带; 导电原子力显微镜(AFM)通过局域的电化学还原 ;可以发现调制电流诱导电场还原GO较直接调制电 诱导还原GO相比,其精细控制程度提高了很多, 而可以控制rGO器件不会因为电流过大而造成不必 的破坏,该法适合制备还原程度不同的石墨烯器件 电场诱导法不需要化学还原剂参与,减少了石墨烯 件的化学污染,避免石墨烯器件的性能受到影响。】; 通过扫描探针的局域催化还原 ;氧化石墨烯参与反应,造成的后果是石墨烯条带越来 粗,宽度更加不均匀,甚至可能导致器件的短路。上 的加热可以说一般加热也可以是微波加热,其中微波 热可以显著缩短氧化石墨烯的还原时间,比一般的化 加热还原的方法更加快捷、方便和干净,且可以获得 批量的还原程度可控的石墨烯溶液,在运用旋涂沉积 方法可以简便的制石墨烯器件。;制备产物是否是石墨烯的检测方法;3. 用导电针尖测,从对应的电流图像上可以看出,只有在还原石墨烯的凹槽处导电针才可以测到电流,而未被还原的区域,测量到的电流在实验误差范围内为零,表明是不导电的。 X射线光电子能谱(XPS)表征研究,利用XPS来系统分析氧化石墨烯表面的元素组成、原子价态以及原子的相对浓度等信息. 拉曼光谱表征的研究,对入射光频率不同的散射光进行分析得到分子振动、转动方面的信息;上图中:曲线1是未经处理的氧化石墨烯XPS谱图,从图谱中可以清楚看出它的CLs有俩个峰,分别是285eV和287eV。前者对应的是碳的sp2轨道,后者的能量较高,对应的是表面含氧基团,因为氧化石墨烯有大量的含氧基团,所以后者的强度与前者接近。 曲线2是氧化石墨烯样品在氢气氛下1000C退火1个小时的结果,可以发现含氧峰位稍有降低,可能是氢气对GO有很微弱的还原。 曲线3是在GO表面溅射一层很薄的Pt后测量的CLs的峰,可以看出Pt沉积前与沉积后CLs的峰变化不大,说明Pt颗粒沉积到GO表面对CLs峰没有影响。;曲线4是将沉积有Pt颗粒的GO样品在真空下1000 退火1个小时后的测量结果,可以看出CLs的含氧 基团峰有少许降低。结合3、4曲线可以看出,室 温下Pt颗粒对GO没有催化还原特性,但在温度 高时,会有轻微的作用。 曲线5是沉积有Pt颗粒的GO样品在氢气氛下1000C 退火1个小时后的测量结果,可以明显看出含氧 基团峰的强度显著下降,说明氧化石墨烯表面 含氧基团大都消失了。 这一系统的XPS表征实验有力的证明了Pt颗粒作 为催化剂,在还原剂氢气存在的条件下,在一定 温度下,就可以实现对氧化石墨烯的还原。 ;上图是氧化石墨烯区域和用Pt针尖还原的还原石墨烯小区域的拉曼光谱图。可以看出氧化石墨烯和还原石墨烯都有俩个主峰D-峰和G-峰,根据拉曼光谱理论,G峰是由碳的sp2杂化轨道所致,而D峰是由于碳基材料晶格的无序度所致。对比还原前后的图谱,发现未还原的氧化石墨烯D-峰比G-峰弱,而还原后的刚好相反,这种解释是还原后的氧化石墨烯含氧基团的脱去,形成还原石墨烯小区域,这些小区域使整个石墨烯无序度的提高。结论是D/G拉曼峰强度比的提高对应氧化石墨烯被还原。

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