CMOS工艺片上传输线研究.pdfVIP

第36卷第6期 东南大学学报(自然科学版) V01．36No．6 2006年“月 JOURNALOFSOUTHEAST Science Nov．2006 UNIVERSrrY(NattlralEdition) CMoS工艺片上传输线研究 陈 勖 王志功 李智群 (东南大学射频与光电集成电路研究所，南京210096) 摘要：对深亚微米硅基cM0s工艺集成电路中常用的微带线和共面波导2种传输线结构进行了 CMOs工艺制作了特征阻抗分别 研究．从理论上分析了传输线分布参数和损耗，利用O．13“m 测试技术进行测试．利用分布参数电路模型和测试得到的S参数提取出了特征阻抗、衰减常数、 品质因数等传输线基本参数．研究结果为设计者选择和设计高性能传输线提供出可借鉴的实用 性模型． 关键词：cM0s工艺；微带线；共面波导；