磁流体光学特征研讨.pdfVIP

中国T程热物理学会 传热传质学 学术会议论义 编【．}：063139 磁流体光学特征研究 宣益民李斌李强 (南京埋T人学动力丁程学院，南京．210094) 摘要谯模拟外磁场作用时磁流体的微观聚集结构的基础一卜，奉义建．沈了研究磁流体的光学 性质的微观模型，主要足运用蒙特卡洛方法模拟光线在磁流体薄层内的传递的全过程，统计 、计算磁流体薄层的光谱透射率，并分析je影响因素。 关键词磁流体微观聚集结构光谱透射率蒙特卡洛方法 1．概述 磁流体在外磁场作用下有特殊的光学性质，目前，磁流体光学特性的研究主要集中 在两个方面：一方面是磁光效应的特性研究，另一方面则是磁流体薄层光谱透射特性研 Fe 30·磁流体往可见光的照射一卜．会形成微米级的聚团，而移开可见光聚团又会分裂 L．Tomc012]在磁流体中加入微米尺寸的铜粒子，实验证明铜粒子的存在影响了磁性颗粒 的团聚过程和磁流体的光线透射率：H．E．Homgl3】实验测定了磁流体薄层的光谱透射率， 并发现可以通过改变外磁场强度、磁流体薄层光学厚度和粒子浓度等参数米控制磁流体 薄层的光学透射率。 目前，磁流体的光谱特性研究主要是通过实验观测的方法进行，为了更深刻地理解 磁流体的光谱特性，从而更好地推，“磁流体的光学应用，还必须从理论方面进行研究。 本文在运用分子动力学方法模拟得到磁流体微观结构的基础上【5】，建立了研究磁流体的 光谱特性的微观模型，利用此模型跟踪光线在磁流体薄层中传递的全过程，研究分析了 影响磁流体薄层光谱透射率的多种因素，包括：薄层厚度、薄层界面特性、磁性粒子体 积浓度、磁性粒子粒径、外加磁场强度，等等。 2．物理模型 以模拟的磁流体微观结构为基础【51，建立这样一个模型：以微观结构体为一单元体 (称为母单元体)，在X和Y轴方向利用周期性边界条什将其拓展成无限人平板，而在 Z轴方向不作处理，由此构成磁流体薄层，如图l所示，即磁流体薄层由无数完全相同 的单元体构成，本文就是以这样的磁流体薄层为研究对象，研究其光谱性质。由图可见， -甲行光线峨直入射剑磁流体薄层上，光线的入射点位置由随机过程确定，每个立方网格 尽命项日：吲．家门然{：}!学壮企重点项口(No 1026 区域即是一个上述的单元体，其问的粒子分布状态均与母单元体的相同。 本文运用Monte．Carlo法模拟计算磁流体 薄层的光谱特性，即是要职踪一定数嚣的光线 在磁流体薄层内部以及界面处的传递行为，最 终统计入射光线的去处，是被薄层吸收、反射 还是透射。Monte—Carlo法模拟光线的传递过 程主要可以分为以。FJL个独立的过程： (1)光线传递行程概率模型【61 图l磁流体薄层结构 S=一In(1一JR。)／K 式中，R。为传递行程随机数；K为介质的衰减系数：S为光线的传递行程。 (2)光线在界面处反射、折射概率模型【6】 设p。为界面反射率，由Fresnel反射定律确定。当反射随机数尺，≤p。时，光线被 界面反射：当R，成时，光线经界面折射。 (3)光线击中粒子概率模型 判断粒子是否击中粒子，通常有两种方法：一种是从能鼙衰减的角度米判断光线是 否击中粒子，适川丁均匀介质的模拟【6】；另一种是将薄层内每个粒子的真实位置输入计 算机，然后判断光线所在的直线是否与粒子所在的球面相交，若相交，则表明光线击中 粒子。磁流体薄层中的粒子是非均匀分布的，故采用后一种方法。 (4)光线被粒子散射或吸收概率模型 设单个粒子的反照率为co，，当散射随机数置≤03，时，光线被粒子散射；当足卯， 时光线被粒子吸收。CO．由式(2)确定： foe=疋p／k (2) 式中，K。为粒子的散射系数，疋。为粒子的衰减系数，均由米氏散射理论确定。 3．物性参数 模拟磁流体薄层的光谱特性时，主要参数包括：垂