墙地砖抛光机磨削均匀性分析及建模研究.pdf

中国硅酸盐学会陶瓷分会机械装备专业委员会2005学术年会论文集 墙地砖抛光机磨削均匀性分析及建模 冯浩张柏清 (景德镇陶瓷学院，333001) 擅要 通过对影响陶瓷墙地砖抛光机磨削均匀性的多方面团素进行了分析t并建立了磨削均匀性的数学模型孩模型反映了抛光机各 运动参数和几何参数对磨削均匀性的影响，并从抛光工艺的角度提出解决磨削均匀性问题的方法。 关键词：抛光机均匀性牍型 砖抛光机磨削均匀分析的基础上。将各影响因素统一 1概述 在数学模型里，为合理选择运动参数和几何参数提供 科学依据，并从抛光工艺的角度提出解决磨削均匀性 墙地砖经抛光后更加平整、光亮而且色泽鲜明， 问题的方法。 增强了墙地砖与其他建材产品的竞争力。墙地砖烧 成后的抛光等一系列后处理工艺已成为墙地砖生产 2抛光机的磨削过程分析 的—个重要部分。从加工方式看，墙地砖抛光应属于 端面磨削方式。一般的端面磨削运动参数包括纵向 抛光位于刮平工序之后，从工艺的角度抛光机磨 进给运动Ⅵ，主轴旋转运动n，横向往复进给运动vc 头分粗磨、粗抛和精抛磨头三组。按不同加工要求每 ，如图1所示。 组磨头个数可灵活配置。从结构上看，磨头有摆动式、 圆柱滚动式和圆锥滚动式等形式，它们的加工方法如 图2所示。 粗磨用于进一步调整砖的平整度，需较大的磨削 用量，多采用磨削效率较高的圆柱滚动式磨头和圆锥 滚动式磨头，磨削过程中磨削量恒定。粗抛则以磨削 为主，研磨为辅。粗抛磨削量较粗磨少，结构上多采用 摆动式磨头，也有一些厂家在粗抛的前n．个磨头上采 用圆柱滚动式磨头或圆锥滚动式磨头。粗抛是以研 磨为主，磨削为辅的—道工艺。与精抛相比较其磨块 的粒度较大，磨头结构为摆动式。粗、精抛都是恒医力 磨削。抛光机的磨削过程具有以下特点： 圈1蠕面磨削示意田 (1)砖的抛光由多个磨头共同完成，砖的抛光质 量不仅仅与单个磨头的磨削质量有关，而且与抛光工 艺安排有关。合理安排各磨头的切削用量及粗、精抛 关于金属材料端面磨削表面均匀性分析已有许 磨头的粒度梯度，以及对各磨头的运动轨迹的规划都 多研究，但都具有一定的局限性。本文将在陶瓷墙地 将有效地提高墙地砖抛光质量。 68 中国硅酸盐学会陶瓷分会机械装备专业委员会2006学术年会论文集 ∞摆动式磨头 ㈣啊柱滚动式磨头 (c)固雄滚动式磨夹