溅射制备NiMnGa磁性形状记忆合金薄膜的组织结构研讨.pdf

168 材料工程／2008年增刊1(SAMPEChina2008) 溅射制备Ni—Mn—Ga磁性形状记忆合金薄膜的 组织结构研究 ofNi—Mn-Ga Films Preparation MagneticShapeMemoryAlloys by andtheMicrostructureoftheFilm MagnetronSputtering 何亮，钱士强，卢寅蓓，李莱芝 (上海工程技术大学材料工程学院，上海201620) HE Lai—zhi Yin—bei，LI Liang，Q／ANShi—qiang，LU 摘要：采用磁控溅射法制备Ni—Mn—Ga磁性形状记忆合金薄膜，并将制备薄膜在不同的温度下进行真空热处理。研究了 不同工艺条件下制备薄膜的结构、形貌和磁性。结果表明：采用磁控溅射在单晶Si基底上溅射Ni-Mn-Ga磁性形状记忆 合金薄膜，主要为沿基底法线方向的柱状晶结构，随着热处理温度提高，薄膜晶化程度提高，沉积在Cu基底上的薄膜磁 性优于沉积在Si基底上薄膜的磁性。 关键词：Ni—Mn-Ga合金；磁控溅射；磁性形状记忆合金 文献标识码：A 文章编号：1001-4381(2008)Suppl一0168-03 Abstract：Inthearticle，Ni—Mn-Ga filmshavebeen ferromagneticshapememoryalloys depositedby the filmswereannealedonvacuumatdifferenttern— magnetronsputteringtechnique．Thenprepared the curveofthefilmswithdifferent perature．Thephase，microstructure，andmagnetichysteresis technicsare researchshowedthatthefilmisisland the discussed．The structure，and growsalong normalofthesubstrate．Afterthefilmsareannealedat600℃for2h。someNiMnGacanbe phase found． words：Ni—Mn—Ga Key alloyfilm；magneticsputtering；magneticshapememoryalloys 磁性形状记忆合金(FSMA)由于既具有磁场诱导晶硅片。 应变又具有热弹性形状记忆效应，是很有前景的驱动 采用JL560D2型三室超高真空磁控与离子束多 和传感材料，受到国内外很多的关注。Ni—Mn—Ga由功能溅射镀膜机溅射薄膜，靶中心距离基片中心 于具有响应频率快速和磁场诱发可逆应变大的特点， 140mm，基底为水冷方式，溅射室的本底真空度优于1 受到很多的关注。将