电子行业废水研究.docVIP

注：电子行业包含很多行业，半导体行业、电子元件行业（其中包括电容器、电阻器、电感器、电位器、电路板、电子变压器、磁性材料和电子敏感元件等）、平板显示器行业（其中包括TFT-LCD和PDP等）。 半导体行业废水研究 一、废水来源 在制备晶圆时，需要使用超纯水冲洗，无机药剂需要用到盐酸、氨水、硫酸和氢氟酸，有机药剂需要用到光阻剂：乙酸丙二醇单甲基醚酯PGMEA（C6H12O3）和乳酸乙酯EL（C5H10O3）；显影剂：氢氧化四甲基铵TMAH（C4H13NO）；去光阻剂：一甲基-2-比喀NMP（C5H9NO）；光阻制程用药：酚（C6H6O）；晶片干燥过程用药：异丙醇IPA（C3H8O）。在使用药剂的过程中就会产生废水。 二、废水水质 1、含氟废水 常见水质： 2、酸碱废水 酸碱废水中，常含有SS，所以在处理时需要注意是否另行添加去除颗粒度的设备，或是和研磨废水合流处理。 3、有机废水 4、研磨废水 5、氨氮废水 6、含铜废水 具体水质可参看上海华立项目和大连英特尔项目 三、出水水质 1、国家标准 污水综合排放标准 2、行业标准 企业标准 有些企业考虑到最终排放水质要与生活污水合流排放，或是响应国家号召，会出现与国家标准和行业标准不相同的标准。 四、工艺流程 参考上海华立项目和大连英特尔项目。 电子元件行业废水研究 一、废水来源 电子元件，以印制电路板行业为主要介绍对象。 在上述印制电路板的过程中，会产生有机废水、酸性废水、碱性废水、含氰废水、络合废水、含铜废水和研磨废水。 二、废水水质 废水水质： 印制电路板废水水质水量分类表 (单位：mg/L，pH除外) 序号 废水种类 比例(%) pH COD Cu Ni CN NH3-N 说 明 1 磨板废水 15~30 5~7 30 3 2 络合废水 3~8 10 200~300 50 化学镀铜等清洗水，含EDTA等络合物 3 高浓度有机废水 3~6 10 5000~15000 2~10 显影、剥膜、除胶废液和显影首级清洗水 4 一般有机废水 10~15 10 200~600 脱膜、显影工序的二级后清洗水；贴膜、氧化后、镀锡后以及保养清洗水 5 电镀废水 15~20 3~5 60 10~50 6 综合废水 20~30 3~5 80~300 20~35 一般清洗水 7 含氰废水 0.1~1.0 8~10 30~50 200 挠性板含氰废水较多 8 含镍废水 0.1~1.0 2~5 80 100 镀镍清洗水 9 含氨废水 1~5 8~10 60~200 碱性蚀刻清洗水 废液成分 印制电路板废液分类及成份表 (单位：mg/L，pH除外) 序号 废液种类 pH COD 总Cu 废液成分 1 油墨废液 ≥12 5000~20000 冲板机显影阻焊油墨渣 2 褪膜废液 ≥12 5000~20000 (3~8)％NaOH，溶解性干膜或湿膜 3 化学镀铜废液 ≥12 3000~20000 2000~10000 CaSO4，NaOH，EDTA，甲醛 4 挂架褪镀废液 ~5M酸 50~100 ~80000 硝酸铜，浓硝酸 5 碱性蚀刻废液 9 50~100 130000~150000 Cu(NH3)2Cl2 6 酸性蚀刻废液 ~2M酸 50~100 150000 CuCl2，HCl 7 褪锡铅废液 ~5M酸 50~100 100~1000 Sn(NO3)2，HNO3(或者氢氟酸/氟化氢胺) 8 微蚀废液 ≤1 50~100 ＜30000 过硫酸铵APS(过硫酸钠NPS)+(2~3)%硫酸； 或硫酸+双氧水 9 高锰酸钾废液 ≥10 2000~3000 100~300 高锰酸钾，胶渣 10 棕化废液 0.1 50~100 25000 (4~6)%H2SO4,有机添加剂 11 预浸废液 酸性 50~100 800~1500 SnCl2，HCl，NaCl，尿素 12 助焊剂废液 3~4 10000~20000 1000~2000 松香，焊剂载体，活性剂，稀释剂(热风整平前使用) 13 抗氧化剂废液(OSP) 3~4 ~15000 1000~2000 烷基苯骈咪唑，有机酸，乙酸铅，CaCl2，苯骈三氮唑，咪唑 14 膨胀废液 ≥7 100000~200000 10~100 有机溶剂丁基卡必醇等 15 碱性除油废液 ≥10 2000~8000 10~20 碱性，有机化合物，表面活性剂(乳化剂，磷酸三钠，碳酸钠) 16 酸性除油废液 ≤1 2000~5000 50~300 硫酸，磷酸，有机酸，表面活性剂 17 显影类废液 ≥12 ~4000 300~500 Na2CO3(褪膜液为NaOH)