离子束辅助中频反应溅射 (Cr,Ti,Al)N薄膜的研究.pdfVIP

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2018-04-07 发布于北京
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离子束辅助中频反应溅射 (Cr,Ti,Al)N薄膜的研究.pdf

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真空科学与技术学报第26卷增刊 162 CⅢNESEJOURNAL0FVACUUMSCIENCEANDTECHNOUDGY 2006年9月离子束辅助中频反应溅射 (Cr，Ti，A1)N薄膜的研究林松盛1，2+代明江1侯惠君1朱霞高1 李洪武1 林凯生1 戴达煌1 (1．广州有色金属研究院材料表面中心广州510651；2．广东工业大学广州510090) and CharacterizationGrowth FilmsIonBeam of(Cr，Ti，AI)N by Assisted Reactive Twin-TargetMagnetronSputtering Lin andDai Songshen91，孙，DaiMingjian91，HouHuijunl，ZhuXiaga01，LiHongwul，LinKaishen91 Dahuan91 under Researchlnstitote ／1．ResearchDevelopmentCenterforMaterialss咖EngineeringTechniqueGnangzhou oA ＼Non-Ferrous Metals，o衄咖M，510651，China；2．GuangdongUniversityof filmswere ionbeamassisted reactive Oilsubstratesof Abstract(Cr，Ti，At)N grownby twin-targetmagnetronsputtering Si，steel，Iligh andhard filmswerecharacterizedwith electron X- 唰steel alloys，respectively．The scanning microscopy，X-raydiffraction，energydispersive the and conventionalmechanical frlmsWe／efoundto apectroscopy probes．Thehighquality(Or，Ti，A1)N disolaymany ray small interfacial size，fastdeposition micro-hardness(35GPa)，and adhesion(80N)． crystal耐n rate，high strong Thin reactive beam Keywordsfilm，(Cr，Ti，X1)N，Twin—targetsputtering，Ion 摘要为了提高工模具的服役性能，采用中频反应溅射，无灯丝离子源辅助的方法沉积了(Cr，Ti，At)N多元硬质薄膜。分别用电子能谱、x．射线衍射、显微硬度计、划痕仪和干涉显微镜分析了薄膜的成分、相组成、硬度、膜／基结合力及膜层厚度。结果表明：用此法制备的薄膜为含有多相结构的(Cr，Ti，m)N多元硬质膜，晶粒细小，沉积速率快，显微硬度高达35GPa，结合强度高度达80N，综合性能优异。关键词薄膜(Cr，T