球磨工艺对钨掺杂磷酸锂靶材性能的影响.doc

深 圳 大 学 本 科 毕 业 论 文（设计） 题目: 球磨工艺对钨掺杂磷酸锂靶材性能的影响 姓名: 李智聪 专业: 材料科学与工程 学院: 材料学院 学号: 指导教师: 杨海涛 职称: 教授 2015 年 4 月 22 日 深圳大学本科毕业论文（设计）诚信声明 本人郑重声明：所呈交的毕业论文（设计），题目《球磨工艺对钨掺杂磷酸锂靶材性能的影响》 是本人在指导教师的指导下，独立进行研究工作所取得的成果。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体，均已在文中以明确方式注明。除此之外，本论文不包含任何其他个人或集体已经发表或撰写过的作品成果。本人完全意识到本声明的法律结果。 毕业论文（设计）作者签名： 日期： 2015年 4月 22日 目录 摘要 5 1.前言 5 1.1陶瓷溅射靶材概述 5 1.2磷酸锂靶材的发展现状 5 1.2.1 Li3PO4的基本性质 5 1.2.2 LiPON电解质薄膜概述 6 1.2.3磷酸锂靶材的应用 6 1.3 LiPON薄膜和磷酸锂靶材存在问题及改性 7 2.陶瓷靶材工艺性质 8 2.1粉体的特殊性质与制备方法 8 2.2球磨的原理 9 2.3造粒 10 2.4压制方式 10 2.5靶材烧结技术 11 3.实验部分 12 3.1实验试剂与仪器 12 3.2实验流程 13 3.3实验步骤 13 3.3.1原材料及配方 13 3.3.2球磨与混料 14 3.3.3粉末预烧 14 3.3.4添加成型剂 15 3.3.5造粒 15 3.3.6压制成型 15 3.3.7脱胶及高温烧结 15 4.结果表征与分析 17 4.1 XRD物相分析 17 4.2 SEM微观形貌分析 18 4.3失重率 19 4.4收缩率 20 4.5相对密度 20 4.6力学性能测试 21 4.6.1抗弯强度 21 4.6.2维氏硬度 22 5.结论 23 参考文献 24 致谢 25 Abstract 26 球磨工艺对钨掺杂磷酸锂靶材性能的影响 【摘要】本文采用常压烧结法制备碳化钨掺杂磷酸锂陶瓷靶材，通过改变碳化钨磨球与磷酸锂粉末原料质量比大小，从而研究不同钨掺杂量对磷酸锂靶材性能的影响。通过对比其晶体结构、微观组织形貌、收缩率、相对密度、抗弯强度和维氏硬度等性能的变化，确定钨掺杂磷酸锂陶瓷靶材的最佳制备工艺。随着球料比增大，靶材的相对密度呈先上升后下降的趋势；通过XRD物相分析、EDS能谱分析以及SEM显微形貌观察，发现当球料比增加至4:1时出现第二相WO3化合物，导致靶材的性能降低。研究表明，WC球料比为2:1的条件下获得的W掺杂磷酸锂陶瓷靶材的综合性能最佳,靶材的相对密度达到92.24%,抗弯强度达到38.34Mpa,维氏硬度达233.810HV0.3。 【关键字】碳化钨，掺杂，Li3PO4靶材，球料比 1.前言 1.1陶瓷溅射靶材概述 靶材是一种具有高附加值的特种电子材料，主要应用于电子信息产业、玻璃镀膜、耐磨材料和高档装饰等领域。随着电子产业的蓬勃发展，目前，日本和德国是世界从事靶材生产的先进国家，世界各国在美国申请的靶材专利数量日本在靶材的研制、开发与生产方面居世界领先地位[]。我国新型薄膜材料的研究也取得进展，已逐渐成为了世界上薄膜靶材的最大需求地区之一(或微米)薄膜[]。 1.2 LiPON电解质薄膜1.2.1 Li3PO4的基本性质 磷酸锂(Li3PO4)是一种无色斜方晶体或白色晶体，与橄榄石相似，理论密度为2.439g/cm3，熔点为℃，溶于氨水和酸溶液，微溶于水，不溶于丙酮。Li3PO4加热至赤热时，不熔融，不造渣，也不分解。Li3PO4目前彩色荧光粉的理想原料光照短但光效时间长无放射性低成本。在作为微电源方面，磷酸锂作为靶材制备的LiPON薄膜是被最广泛应用的电解质薄膜3]；在化工上可做催化剂，用于制备烯丙醇[]，此外还用在气体敏感器中[]、特种激光玻璃[]、光盘、陶瓷材料等。此外