以DLC接口及钻铜基材制造大功率的垂直LED.doc

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以DLC接口及钻铜基材制造大功率的垂直LED

以DLC接口及钻铜基材制造大功率的垂直LED   2010年全球LED产值(约百亿美元)几乎追近台积电一年的销售额。许多重量级的大公司( 如台积电、鸿海、友达等 )也将跳进这片光海。然而大陆却早有布局使2012年成为传统LED的总决战(Armageddon)年,而最后获胜的将会是中国。中国不仅掌握市场,更布局近千台的MOCVD机海, 因此可抓住LED的上、中、下游产业。有鑑于此,CREE、晶电、灿圆、新世纪、旭明光电等LED磊晶生产的领头羊已纷纷进驻大陆。美国、日本及台湾 LED磊晶公司的生存之道就是把传统的水平LED设计升级成垂直式LED,这样才能在大面积的芯片上加大电流(如单芯片10W)而以一颗LED的生产成本取代多颗的传统LED。   垂直LED的制作必需把GaN半导体软銲在低膨胀率的基材上,但偏偏低膨胀率的材料(如矽或GuW)其散热不佳,而高导热材料的热膨胀却远大于GaN(约 5.5ppm/mK), 因此LED专家找不到理想的衔接材料。本文推荐以DLC为接口而钻石和铜的复合材料(钻石散热片)为基材制作全世界最先进的垂直LED。这样可以让台湾LED的产业蛙跳超前外国的主导公司(如Nichia, Osram,Lumiled),也顺势摆脱欧、美、日对台湾的专利封锁。   LED的世界革命。2010年LED开始大量用于室内照明、户外路灯、及电视背光。室内照明常用的白炽灯(Incandescent Lamp)及萤光灯(Fluorescent Lamp)乃致LCD背光常用的冷阴极管(Cold Cathode Fluorescent Lamp)正在快速被淘汰中。   LED的主流产品为白光照明,大部份的白光乃以蓝光的LED激发黄色的萤光粉产生假性的白光。LED的大宗生产乃以蓝宝石为基材外延磊晶生长GaN成为LED的芯片。生长的主要方法为金属有机化学气相沈积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition 或MOCVD) 。 台湾拥有最多台的MOCVD设备,为世界LED晶粒产量第一的国家。但大陆已经急起直追,甚至提供每台MOCVD 补助人民币一千万元的优惠奖励 。   台湾主要的生产公司(晶电、灿圆、新世记等)都已在大陆设厂。另一方面,台湾光电产品的劲敌韩国(如Samsung)在2010年虽向台湾大量采购LED 货源,但自己却也安装了两百多台的MOCVD。所以台湾MOCVD生产的LED其产能在2011年可能过剩,预期即将成无利可图的红海市场。台湾急需开发更高端的产品才能避免金融风暴后DRAM杀价竞争的复辙 (如表一~表四) 。   表一:世界最大产值的LED产品公司(2009)      参考:LED Inside   表二:世界最大芯片产量的LED 公司(2010)      参考:IMS Research, SEMI   表三、主要LED公司使用MOCVD的规模(2009)      参考︰Yuanta Research estimates   表四:世界最大产值公司PK世界最大产量公司的竞争优势      LED的专利网   台湾虽为LED制造王国,但就像其他的代工产业一样,LED专利受制于国外的大公司,每年必须缴付钜额的权利金。台湾出钱制造却为外国老板赚钱,而现在生产LED的技术更已大量外移大陆,这是台湾LED代工生态的悲哀。(如图1、2)      图1:LED 专利网      图2︰LED外国公司交互授权而边缘台湾代工产业的现状。然而这个劣势却可以让钻石科技中心发展的钻石专利逆转获胜(见下述)   LED的战国时代   提高LED性能的一种方法乃将电流由弯流改成顺流。由于蓝宝石基材不导电,LED正负两个电极乃设在同面。当电流通过GaN晶格时电流必须由垂直顺流改成水平横流,这样电流就会集中在内弯处,导致不能有效使用P-N接口的电子层和电洞层,因而减少了发光效率。更有甚者,电流集中之处会产生热点使晶格缺陷范围延伸,LED的亮度就会随缺陷扩大而递减。为了延长LED的寿命,输入的电流必须降低(如350mA),单位面积的发光亮度,就受到了限制。LED设计的主要设计有如下列诸图所示(如图3)               图3:LED芯片的主要设计示意   LED电流转弯的问题不能靠封装的设计(如复晶或Flip Chip)改善,把电流截弯取直才是正道,这样必须把电极置于LED磊晶的两侧。电流平顺就可以明显提升LED的亮度。除此之外,相同亮度的顺流LED使用的芯片面积较小,因此晶圆上切出的晶粒数目较多,也就是单颗LED的制造成本可能降低。尤其进者,电流转弯时若扩大芯片的面积会使LED发光更不均匀。但是顺流LED其发射的光子数目则会由发光面积的加大而提高。所以一颗以大电流(如1A)驱动大

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