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真空蒸发镀膜PPT
2.1.1;2;7;Pν—饱和蒸汽压,Hν-摩尔汽化热/蒸发热,Vg-气相的摩尔体积,
Vs-固/液相的摩尔体积。
因为Vg>>Vs,上式变为;(2 ? 4); (2 ? 11); 2.1.5 蒸发分子的平均自由程与碰撞几率
;由上图看出,平均自由程要远大于实际行程(源-基板间距),碰撞几
率才能有效降低。;(2 ? 18);2.2; 2.2.1 点蒸发源
;(2 ? 24);2.2.1 小平面蒸发源;20;(2 ? 35);22;23;24;25;26;27;28; 2.2.7 蒸发源与基板的相对位置配置
点蒸发源与基板的相对位置
从薄膜厚度公式2-25知道,只要cosθ=1,即基板处于以点源为中
心的球面上,t就是常数。所以球面布置就基本满足了膜厚的均匀性。;30;31;内容小结;2.3;33;34;35;36;37;38; 2.3.2 电子束蒸发源
?工作原理
阴极灯丝发射电子后,受阳极的吸引而被加速,获得动能后轰击到处于
阳极的蒸发材料上,使蒸发材料加热气化,从而实现镀膜。
若不考虑发射电子的初速度,那么被电场加速后的电子动能就等于初始
位置电子的电势能:;40;41;42;43;44;45;46;47;? 饱和蒸汽压与温度的关系:;?;4;而总压为:;合金的蒸发:;p’A p’B 是未知数,利用拉乌尔定律进行估算,即:;于是有:;例如:镍铬合金,组分为80%Ni+20%Cr,在1527℃,PCr=10Pa,
PNi=1Pa,则二者的蒸发速率之比为:;10;11;12;13;14;15;16;17;18;19;20;21;22;23;24;25;26;27;28;2.5;30;31;32; 2.5.2 称重法
?微量天平法——用天平直接测量沉积在基片上的薄膜质量-
具体做法是:将微量天平放在真空室内,把蒸镀的基片吊在天平横梁的
一端,随着薄膜的沉积,天平会发生倾斜,测出倾斜度,求出薄膜的积
分堆积量,再换算成厚度。得到质量膜厚。
如果积分堆积量为m,蒸镀膜的密度为ρ(一般用块体材料的值),基
片上的蒸镀面积为A,则薄膜厚度为:;34;35;石英晶体的固有振动频率f、波长λ、速度υ之间的关系是:
υ = λf (2 ? 72)
石英晶片的厚度为t,对基波而言,波长λ为 λ = 2t (2 ? 73);37;38;39;40;(2?80);42;43; 等色干涉条纹法
与等厚法不同的是:薄膜与上方的平面镜平行放置,光源使用非单色光。
不再出现等厚干涉条纹,而用光谱仪分析干涉极大的出现条件。;45;具体有两种测量方式:
(1)单色光入射,改变入射角度,满足干涉条件,θ是薄膜内的折射角;47;?
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