低温磁控溅射制备azo薄膜及绒面研究-西北有色金属研究院.pdfVIP

第46 卷 第3 期 稀有金属材料与工程 Vol.46, No.3 2017 年 3 月 RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING March 2017 低温磁控溅射制备AZO 薄膜及绒面研究 1,2 1,2 1,2 1,2 1,2 1,2 张宽翔 ，彭 寿 ，姚婷婷 ，曹 欣 ，金克武 ，徐根保 ( 1. 浮法玻璃新技术国家重点实验室，安徽 蚌埠 233000) (2. 蚌埠玻璃工业设计研究院，安徽 蚌埠 233018) 摘 要：采用直流射频耦合磁控溅射技术，以氧化锌掺铝(AZO, 2% Al O ，质量分数) 陶瓷靶为靶材，在玻璃基片上低 2 3 温沉积AZO 薄膜，并采用质量分数为0.5% 的HCl 溶液刻蚀制备绒面AZO 薄膜，通过XRD 、SEM、分光光度计、霍尔 效应测试系统、光电雾度仪等设备重点研究工作压强对直流射频耦合磁控溅射制备AZO 薄膜的晶相结构、表面形貌、 光电性能以及后期制绒的影响。研究表明，直流射频耦合磁控溅射可以在低温下制备性能优异的AZO 薄膜，且随着工 作压强的减小，致密性增强，光电性能改善，后期刻蚀得到具有良好陷光作用的绒面结构。在工作压强 0.5 Pa 下，低 温制备的AZO 薄膜电阻率达到3.55×10-4 Ω·cm ，薄膜可见光透过达到88.36%，刻蚀后电阻率为4.19×10-4 Ω·cm ，可见 光透过率89.59%，雾度达24.7% 。 关键词：直流射频耦合磁控溅射；AZO 薄膜；工作压强；绒面 中图法分类号：O484.4 文献标识码：A 文章编号：1002- 185X(2017)03-0818-06 氧化锌掺铝（AZO ）薄膜因无毒、成本低、Zn 源 的加入，具有较高的等离子体密度，使得薄膜在沉积的 材料丰富以及在 H 等离子体中性能稳定等优点得到 过程中同时受到具有适当能量的离子轰击，有助于薄膜 广泛的研究，尤其作为前电极应用在薄膜太阳能电池 的生长和结晶[14- 16] 。此外，具有一定陷光作用的透明导 [1-4] 中 。在AZO 薄膜的制备方法中，磁控溅射技术具 电电极对提高太阳能电池的转换效率和稳定性具有至 有成膜致密和成本低等优点，其中以直流和射频磁控 关重要的作用[17,18] 。具有绒面结构的AZO 薄膜一般采 溅射研究最广。采用单一直流磁控溅射方式时，由于 用后期湿法刻蚀[1,19-21] 的方法获得，其结构与AZO 薄膜 辉光放电依靠靶表面的二次电子发射来维持，而二次 晶粒尺寸、晶粒形状及粗糙度有关。因此，磁控溅射的 [5,6] [1,19,21] 电子的发射系数与溅射离子的能量呈线性关系 ，因 工艺参数与后期刻蚀制绒有着密切的联系 。 此维持放电需要很高的靶电压。与直流放电方式不同， 本研究采用直流与射频耦合磁控溅射，在保留直 射频磁控溅射的辉光放电则依靠等离子体中电子和放 流磁控溅射高沉积速率和射频磁控溅射等离子体密度 电离子