射频磁控溅射制备TiB,2TiAlN纳米多层膜和BaTiO,3薄膜的研究.pdfVIP

中文摘要 摘要 纳米多层膜和BaTi03薄膜。利用表面轮廓仪(XP．2)和纳米力学测试系统研究 了薄膜的力学性能(包括薄膜的硬度、弹性模量以及薄膜与基底的结合强度)；通 过X射线衍射分析了薄膜的微观结构；利用摩擦磨损仪研究了薄膜的耐磨性；讨 论了不同工艺参数对薄膜结构和性能的影响。 在TiB2JrriAtN纳米多层膜的研究中，分析了调制周期、调制比例对多层膜的 结构和性能的影响。高角度XRD研究表明：TiB2显示出典型的六方结构，币B2 (001)择优取向较强，TiAIN单层膜显示出典型的面心立方结构，呈现出较强的 织构，说明多层膜形成了很好的调制结构。纳米硬度和划痕测试表明TiB2／TiAlN 多层膜的硬度、弹性模量和膜基结合力都比单质膜有所提高。当调制周期为25 nm，TiB2和TiAIN的调制比例为5：2时，薄膜具有最高的硬度(约36GPa)、弹性 模量(403．6GPa)和临界载荷(31．2naN)。摩擦磨损实验表明大多数TiB-ATiAm多层 膜的耐磨性都要优于TiB2、TiAIN单层薄膜。实验设计的调制周期与小角XRD 算出的周期值符合的较好。 对于TiB2／TiAIN组成的纳米多层膜体系，以前的文献鲜