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[工学]晶体管原理3-8_陈星弼+张庆中.ppt

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[工学]晶体管原理3-8_陈星弼张庆中

6、共发射极高频小信号短路电流放大系数及其截止频率 将           代入,得: 若忽略   ,得: * 3.8 电流放大系数与频率的关系 当晶体管对高频信号进行放大时,首先用被称为 “偏置” 或 “工作点” 的直流电压或直流电流使晶体管工作在放大区,然后 把欲放大的高频信号叠加在输入端的直流偏置上。 当 信号电压的振幅远小于 ( kT/q ) 时,称为 小信号。这时晶体管内与信号有关的各电压、电流和电荷量,都由直流偏置和高频小信号两部分组成,其高频小信号的振幅都远小于相应的直流偏置。各高频小信号电量之间近似地成 线性关系。 电流、电压和电荷量的符号(以基极电流为例) 总瞬时值: 其中的直流分量: 其中的高频小信号分量: 高频小信号的振幅: 由于各小信号电量的振幅都远小于相应的直流偏置,而且是叠加在直流偏置上的,所以可 将小信号作为总瞬时值的 微分来处理 。仍以基极电流为例,即: 或 随着信号频率 f 的提高, 和 的幅度会减小,相角会滞后。 以 分别代表高频小信号的发射结注入效率、基区输运系数、共基极和共发射极电流放大系数 ,它们都是复数。对极低的频率或直流小信号,即当 ω → 0 时,它们分别成为 。 以 PNP 管为例,高频小信号电流从流入发射极的 ie 到流出集电极的 ic ,会发生如下变化: ie ipe ipc ipcc ic ie ic CTE CDE CTC 3.8.1 高频小信号电流在晶体管中的变化 3.8.2 基区输运系数与频率的关系 1、高频小信号基区输运系数的定义 基区中到达集电结的少子电流的高频小信号分量 与从发射区注入基区的少子形成的电流中的高频小信号分量 之比,称为 高频小信号基区输运系数,记为 。对于 PNP 管,为 基区输运系数随频率的变化主要由少子的基区渡越时间所引起。 (1) 复合损失使 的物理意义:基区中单位时间内的复合率为 ,少子在渡越时间 ?b 内的复合率为 ,因此到达集电结的未复合少子占进入基区少子总数 ,这就是 。这种损失对直流与高频信号都是相同的。 2、基区渡越时间 的作用 (2) 时间延迟使相位滞后 对角频率为ω 的高频信号,集电结处的信号比发射结处在相位上滞后ω?b ,因此在 的表达式中应含有因子 。 (3) 渡越时间的分散使 减小 已知在直流时, ,现 假定 上述关系也适用于高频小信号,即: 3、由电荷控制法求 高频小信号空穴电流的电荷控制方程为 当暂不考虑复合损失时,可先略去复合项 。 基区 ipe ipc 代入略去   后的空穴电荷控制方程中,得: 再将复合损失考虑进去,得: 上式可改写为 一般情况下, 得: 式中,     代表复合损失,   代表相位的滞后, 代表 ?b 的分散使 的减小。 4、 在复平面上的表示 △OPA与△OAB 相似,因此, 可见,半圆上点 P 的轨迹就是 。 由于采用了 的假设而使 的表达式不够精确 ,因为这个假设是从直流情况下直接推广而来的。但是在交流情况下,从发射结注入基区的少子电荷 qb ,要延迟一段时间后才会在集电结产生集电极电流 ipc 。 计算表明,这段延迟时间为 ,m 称为 超相移因子,或 剩余相因子,可表为 5、延迟时间 对于均匀基区,η = 0, m = 0.22 。 这样,虽然少子在基区内持续的平均时间是 ?b ,但是只有其中的 时间才对 ipc 有贡献,因此 ipc 的表达式应当改为 同时要增加一个延迟因子

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