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[工学]固体物理第二章
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
重点
2.1 硅、锗晶体中的杂质能级
2.2 Ⅲ-Ⅴ族化合物中的杂质能级
理想半导体的能带
理想半导体的能带
禁带无能级
E
c
禁带
E
允带 v
禁带
非理想(实际)半导体特征:
1. 原子并非静止在格点,而在平衡位置附近振动;
点缺陷 空位等
2. 晶格结构存在缺陷 线缺陷 位错
面缺陷 层错
无意掺杂 源材料 工艺
3. 半导体内有杂质
有意掺杂 控制材料性质
制成各类器件
杂质:半导体中与晶体基质原子不同的原子
杂质和缺陷的影响:
杂质和缺陷破坏原周期性势场,在禁带
中引入能级,对半导体的性质产生决定
性的影响。
E
c
杂质能级
E
v
2.1 硅、锗晶体中的杂质能级
2.1.1 替位式杂质和间隙式杂质
4πr 3
×8
3 r 3a / 8
η 3 ⎯⎯⎯⎯→ 0 .34
a
替位式杂质和间隙式杂质
间隙式杂质
替位式杂质
间隙式杂质 杂质原子位于晶格间隙位置。
杂质原子较基质原子小。
替位式杂质 杂质原子取代晶格原子的位置。
原子大小与基质原子接近,且价电子壳层相近
2.1.2. 施主杂质 施主能级
2.1.2. 施主杂质 施主能级
电子
P+
正电中心
Si中的施主杂质
Si中的施主杂质
Si Si Si
Si Si
Si P+ Si
Si Si
Si
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