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弱碱性条件下紫铜化学抛光新工艺-中国表面活性剂网
维普资讯
第 19卷 第5期 腐蚀科学与防护技术 Vo1.19No.5
2007年9月 CORROSION SCIENCEAND PROTECTION TECHNOLOGY Sep.2007
弱碱性条件下紫铜化学抛光新工艺
井涛,张忠诚,李广武,赵芳
山东大学 化学与化工学院,济南250061
摘要 :开发出了弱碱性溶液中紫铜化学抛光新工艺,确定了抛光液中的光亮剂(包括缓蚀剂和表面活性剂).经过一
系列正交实验 ,获得了最佳工艺条件 ,并分析了影响抛光效果的各种因素.该工艺抛光速度快、腐蚀性低 、环境污染
小 、成本低.
关键词:紫铜;弱碱性溶液 ;光亮剂;缓蚀剂;表面活性剂
中图分类号:TG175.3 文献标识码:A 文章编号:1002-6495(2007)05-0367-04
A NEW TECHNoLoGY FoR CHEM ICAL PoLISHD G
oFCoPPER IN W EAK ALKALINE SoLUTIoN
JING Tao,ZHANGZhong-cheng,LIGuang—WU,ZHAOFang
SchoolofChemistryandChemicalEngineering,Shandong University,hart250061
Abstract:Anewtechnologyforchemicalpolishingofcopperinweakalkalinesolutionhasbeendeveloped
andabrightener(containingcorrosioninhibitorandsurfactant)hasbeenfoundout.Theprocessparame-
tershavebeenoptimizedthrough theorthogonal trial,each influencefactorhasbeenanalyzed.Thenew
technoloyg hasadvantagesoffastpolishingrate,low corrosionrate,lessenvironmentalpollutionand low
cost.
Keywords:copper;weakalkalinesolutionIbrightener;c0rr0si0ninhibitor;surfactant
铜及铜合金以其优 良的导电、导热性能和塑性及 良好的耐 基于以上原因,我们在总结前人成功经验的基础上,参
腐蚀性广泛用于仪器仪表、日用五金、工艺装饰品、标牌及机械 照化学机械抛光 (CMP) 。 的相关知识,经过一系列的试
配件等行业.为了提高铜及铜合金的装饰效果和综合I生能,人们 验,总结出一种新型弱碱性抛光液,即NH,.H:OK· Fe
普遍采用化学抛光,化学抛光具有操作简单、节能、适用复杂件 (CN)6]体系.在 NH3.H:O存在的溶液中,K3[Fe(CN)]作
的处理,生产效率高等特点,因而倍受人们的青睐…. 为氧化剂与Cu发生反应.
铜及铜合金的化学抛光 (也称为光亮酸洗)在工业生产 即:cu+[Fe(cN)6] +2NH3[cu(NH3)2] +[Fe
中已得到广泛应用.目前在生产上应用的化学抛光液按氧化 (CN)]一
剂来分类主要有以下三大类 (同时混用两种氧化剂的除
使用这种抛光液抛光所需时间短 ,表面光滑、镜面效果
外):1)硝酸及其盐系列,包括 HNO3一H:SO一HC1,HNO一
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