[2018年最新整理]proe_特征_编辑_操作_课件.ppt

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[2018年最新整理]proe_特征_编辑_操作_课件

(4)[在屏幕下方输入150 →完成移动; (5)在“组可变尺寸”栏→选Dim1/Din2 →完成; (6)将Dim设为50 /√ → Din2改为20/ √; (7)确定→ 在管理菜单/完成; 3.旋转复制 父特征 复制特征 (1)编辑→特征操作→弹出菜单管理器; (2)复制→移动→选取→独立→完成; 在此点选操作对象 选取的旋转轴 (3)旋转→曲线/边/轴 [点选边1] →正向; (1) 打开阵列操控板的方法有三种 ①单击右键快捷菜单中“阵列”命令; ②选择 “编辑” →“阵列”命令; ③单击“编辑特征”工具栏中的 二.阵列的操作方法 (2) 阵列“再生选项”的 三种选项的应用 4.2.1 特征的直线阵列操作及实例 直线阵列种类 阵列引导 填充方式 编辑阵列1 双向阵列 单向阵列 编辑阵列2 1. 尺寸方式阵列操作 使用原始引导特征的尺寸来确定阵列 的方向和增量,可双向阵列; 此尺寸线方向确定阵列方向 改变此尺寸值确定阵列增量 1)点选原始特征 2)点击工具 1. 尺寸方式阵列(单向)操作 3)选择“尺寸” 4)双击此尺寸 输入增量-50 回车 5)输入阵列数目6个 6)回车/显示黑点 (表示数目/方向) 7) 生成阵列 在此显示/修改增量 2. 方向方式阵列(双向) 使用指引线的方向来确定阵列方向; 指引线可以是下列线: 座标轴线/实体的边线/实体表面的法线/基准 面的法线; 边线 面的法线 座标轴 基准面的法线 4)选此边线定阵列方向 5)输入第1方向阵列数目6及增量50 1)点选原始特征 2)按工具 3)选择方向 8)输入阵列数目5及增量50 6)点此激活第2方向阵列收集器 7)选此边线定阵列方向 9)按 后生成5行6列双向阵列 3. 编辑阵列1(斜阵列) 使用尺寸方式,在一个方向收集器中收集两个尺寸方向(按住Ctrl点选两尺寸); 阵列倾斜角度随着两个方向上的增不同而变化(本例两增量相同); 4) 后完成阵列创建 1)点选原特征/按 /选“尺寸” 2)按住Ctrl点选两尺寸(变红) 3)输入 -50/-50 1个方向上收集了2个项目 编辑阵列2(特征形状变化) 使用尺寸方式,在一个方向收集器中收集 三个尺寸(按住Ctrl点选3尺寸); 三个尺寸增量中,其中两个尺寸决定阵列 方向,一个决定原始特征的直径; 4) 后完成阵列创建 1)点选原特征/按 /选“尺寸” 2)按住Ctrl点选三尺寸(变红) 3)输入-50/ -50/30 1个方向上收集了3个项目 将原始特征复制填满一个草绘的区域的阵列; 4. 填充阵列 按该草绘区域填充 1)点选原特征/按 /选“填充” 2)点参照/定义 进入草绘 3)在零件的上表面草绘如图示 5)填入数据如上 4)草绘完成按 操控板激活 6)按 后生成阵列 5. “表”方式阵列 用列表方式创建阵列 本例将用列表方式创建如图阵列 2)按住Ctrl点选三条尺寸线 115/120/50 (变红) 3)点选编辑 打开阵列的列表栏 1)点选原特征/按 /选“表” 4)在列表栏填入数据如下 5)先点 “文件”→“保存”再点 “文件”→“退出” 即完成 6. 参照阵列特征 2)点选新建孔(红) 按 出现操控板 3) 完 成 1)按 /简单/同轴/直径20 /深度10/创建孔特征如图 4.2.2 特征的环形阵列操作及实例 3)点选基准A_2 2)选择轴 4) 输入数据如下 5) 完 成 1)点选孔→ 打开操控板如下 编辑定义修改阵列 将第二方向阵列数由2改为1变为单圈 将 关闭 槽孔保持同一方向 本节结束 4.3 特征的镜像复制 镜像是以参照面或对称中心,复制出一个原对象的副本,是特征复制的一种特殊形式 。 4.3.1特征镜像复制的基本方法 (1)在模型树或绘图工作区选取要阵列的特征; (2)选择“编辑” →“特征操作” →出现特征镜像复 制操作菜单管理器; (3)选择“复制”选项→选取菜单管理器中的不同选 项进行不同种类的复制操作。 注:也可用工具按钮操作: 镜像: 复制/粘贴/选择粘贴: 二.镜像复制的基本方法 (1)选取对象; (2)编辑→特征→打开菜单管理器; (3)选择复制选项; 注: 不同种类的选项可实现不同种类的复制操作; 复制特征 (参考面) 新参考 重新确定复制对象的定位关系和草绘平面等 相同参考 采用与原复制对象相同的尺寸参考

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