[工程科技]XRF常用术语解释.docVIP

术语表 吸收边 1 准确度 1 老化 1 分析晶体 2 分析类型 2 APC 2 表观浓度 2 分析方法 3 分析方法包 3 应用模板 3 人工多层晶体 3 衰减器 3 背景函数 4 背景比率法 4 平衡组分 5 偏差修正 5 Bragg 公式 5 厚样品 5 校正曲线系数 6 检查分析 6 化合物 6 视野光栏 6 微分曲线 7 微分测量 7 漂移校正 7 双靶 8 激发条件 8 EZ 扫描 8 固定角度分析 8 定时分析 8 流程条 9 熔剂 9 FP定量法 9 全范围定性分析 10 谱峰的函数分解 10 玻璃熔片 11 粒度效应 11 高次线 11 识别分析 12 杂质校正 12 积分测量 12 强度积分测量 12 内标校正 13 手工输入数据 13 基体校正 13 测量光路气氛 14 矿物效应 14 净强度 15 重叠校正 15 PC (F-PC) 15 PC 芯线清洁 15 谱峰分解 15 谱峰搜索 16 PHA 16 预抽真空 17 PR 气体 18 初级束滤光片 18 定性分析 18 定量分析 19 再现性 19 分辨率 20 样品膜校正 20 样品 ID 20 样品ID表 20 样品模式 21 样品旋转 21 SC 21 散射线 22 真空保护 22 灵敏度库 22 灵敏度库分区 23 灵敏度库样品 23 准直器 23 平滑 23 光谱仪灵敏度系数 24 SQX 分析 24 SQX 重叠校正 24 标准谱形 24 标准谱分解法 24 理论基体校正系数 25 薄膜样品 25 管电压和管电流 26 2θ角度 26 2θ扫描 26 单位 26 通用标准样品 27 X射线强度 27 X-R 控制 27  吸收边 吸收边是指激发样品中的元素、产生荧光X射线所需的最小能量。吸收边波长?abs (nm) 与最小激发电压V0 (keV)之间的关系如下式： 比如，要产生Ti的K系X射线（如 K? 和 K?1），样品所吸收的能量必须高于其K吸收边的能量，即所需的电压约为 5kV 。 准确度 准确度是指标准值与经验校正法得到的X射线分析值之间的误差。准确度值是由包括样品误差在内的校正曲线误差的均方根计算的，用?d表示： 项 说明 Ci 化学分析值 Wi X射线分析值 n 样品数 m 线性方程中m=2；二次曲线方程中 m=3； 还应在m中加上基体校正系数的个数。 ( 再现性 老化 当X射线已关闭很长时间，再次开启X射线时，要将X射线管电压和电流逐步缓慢升至指定值。缓慢升高管电压和管电流的过程就称为老化。X射线关闭的时间越长，管电流和管电流的升高速度就应越慢。 自动老化功能可根据X射线关闭时间的长短，自动按一定的速度升高管电压和管电流。  分析晶体 用于X射线分光的单晶称为分析晶体。在波长色散X射线荧光光谱仪中，晶体被安装在样品和探测器之间，晶体和探测器按Bragg公式移动，以测量特定波长的荧光X射线。仪器中使用定向的LiF、Ge、PET、TAP等作为晶体。 ( 人工多层晶体 分析类型 分析类型用于指示用本系统进行的预置分析的类型。比如，分析类型有定性分析、定量分析、以及控制分析中的漂移校正和PHA调节等。 APC APC是自动压力控制的缩写，用于在真空条件下测量时使真空度保持恒定。因为即使在真空条件下测量时，X射线的透过率也会随真空度不同而变化，所以，一般要使用APC使真空度保持恒定，以便于与以前的数据进行比较。 可是，在某些情况下，特别是活性炭、沸石等比表面大的样品，测量时不用APC更好。 表观浓度 在经验校正法中，当使用基体校正时，要定义标准样品的表观浓度，通常表示为 Xi。 当用吸收校正项Aij和重叠校正项Bij作为基体校正项时，表观浓度用下式计算： Wi 表示组分 i 的浓度。当假定没有校正组分时，表观值就是表观浓度。  分析方法 分析方法是指已预置并保存的、用于定性分析或定量分析的一组测量条件和计算条件。进行定性分析时，必须准备定性分析方法。进行定量分析时，必须准备定量分析方法。所有分析信息均保存在分析方法中。 分析方法包 在定量分析中，分析方法包包含所有以下分析要素：被测组分、测量条件 、制作校正曲线所需的标准样品信息和校正信息，用于制作校正曲线的标准样品也包括在内。标准样品经制备、测量后，系统自动进行回归计算、制作校正曲线。之后，可以进行未知样品的定量分析。 应用模板 应用模板是软件的组成部分，可使用户快速建立定量或定性分析方法。应用模板中已事先注册了分析的最佳测量条件和计算条件。因此，用户仅需修改少数内容，就可建立定性或定量分析方法。 人工多层晶体 人工多层晶体是人工合成的分析晶体，由作为反射层的重元素层和作为间隔层的轻元素层构成。人工多层晶体用于分析