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表面處理輔助制程工藝介紹 講師：馬海軍 單位：SHZBG事業群iPEG表面處理三廠 Content 表面處理工藝類型及流程 清洗原理及應用 UV油墨遮蔽原理及應用 機械拋光工序原理及應用 噴砂工序原理及應用 第一章 表面處理工藝類型及流程 1.1 表面處理工藝目的 1.解決或提高防護性，鋁的腐蝕電位較低，全面腐蝕 比較嚴重，在與其他金屬接觸時電偶腐蝕特別突出， 因此防護性是首當其沖的問題，陽極氧化和聚合物涂層 是兩種最常用的保護手法 2.裝飾性，從美觀靚麗出發提高外觀品質，如光亮、 著色等 3.功能性，指賦予鋁在工程方面需要的某些物理或化學 特性，如高硬度、耐磨損、電絕緣、親水性等 第一章 表面處理工藝類型及流程 1.2 表面處理工藝類型 表面機械預處理：機械拋光或掃紋 化學預處理或化學處理：化學轉化或化學鍍 電化學處理：陽極氧化或電鍍 物理處理：噴涂、搪瓷琺瑯化及其他物理表面技術 第二章 清洗原理及應用 2.1 清洗概念 在一定的介質環境中在清洗作用力的作用下﹐使物體表面上的污垢脫離去除﹐恢復物體表面本來面貌的過程稱為清洗。 物體?污垢 清洗作用力 介質 物體 + 污垢 一個清洗體系的4個要素﹕清洗物體﹑污垢﹑介質和清洗作用力。 清洗劑 水劑 : 最廣泛﹑用量最大的溶劑很強的溶解能力。 非水溶劑﹕所有除水以外的其他溶劑歸為非水溶劑﹐如有機溶劑。 化學清洗劑﹕常用的化學清洗劑有酸﹑鹼﹑氧化劑﹑金屬離子螯合劑等。 表面活性劑﹕能夠在很低濃度下可以顯著降低溶劑表面張力的物 質﹐如肥皂。 吸附劑﹕在氣體或流體介質中將污垢從原來吸附的物體表面轉移到另一物質表面達到去污目的操作為吸附清洗﹐如活性碳﹑纖維﹑硅膠等。 物理清洗﹕利用力﹑熱﹑聲﹑光電等物理作用進行去污的清洗﹐噴淋﹑超聲波﹑電解等離子等清洗。 第二章 清洗原理及應用 2.2 清洗劑種類 第二章 清洗原理及應用 2.3 常用金屬清洗方法與溶劑 電解清洗 超聲波清洗 研磨清洗 鹼性溶液 有機溶劑 表面活性劑 混合溶液 常用手段 常用溶劑 第二章 清洗原理及應用 2.4 清洗制程 N20清洗制程﹕ 上機台 龍門清洗 轉挂 臥式清洗 下機台 全檢外觀 包裝 第二章 清洗原理及應用 2.4 清洗設備 龍門清洗機 臥式清洗機 第三章 UV油墨遮蔽原理及應用 3.1 遮蔽目的 3.2 UV涂料簡介 產品外觀要求為高光鏡面效果,進行CNC或Lapping過程中極易造成鏡面划傷﹐必須對拋光后產品進行遮蔽保護﹔ UV是英文Ultraviolet Rays的縮寫,是通過紫外光能量引發涂料反應形成體系結構. 第三章 UV油墨遮蔽原理及應用 3.3 UV固化涂料組成 樹脂 溶劑 顏料 添加劑 3.4 遮蔽工藝流程 第三章 UV油墨遮蔽原理及應用 上件 除塵 噴油墨 流平 IR預熱 UV固化 冷卻 下件 第三章 UV油墨遮蔽原理及應用 3.5 遮蔽設備整體外形3D圖 3.6 自動噴柜設備 第三章 UV油墨遮蔽原理及應用 傳送鏈軌 水濂 漆槽 涂料管道 噴槍 1﹑尺寸規格:遮蔽層膜厚15~30um; 2﹑膜硬度： ≧4H; 3﹑涂膜附着力: ≧ 5B 4﹑外 觀﹕產品表面不允許漏底材,雜質不能有指腹感. 3.7 遮蔽規格及性能參數(以N33產品為例)﹕ 第三章 UV油墨遮蔽原理及應用 第四章 拋光工序原理及應用 4.1 拋光加工的目的 提高產品的表面光潔度﹐使其獲得裝飾性外觀 提高制品的耐蝕性 除去產品表面的細微不平﹐降低粗糙度 第四章 拋光工序原理及應用 4.2 拋光加工的原理 磨粒在其載體介質的作用下對基體表面 (突起部位) 刮削的過程﹐以降低基體表面的粗糙度和提升基體表面的光潔度。 手動拋光機 第四章 拋光工序原理及應用 4.3 機械拋光的工藝 粗拋 用相對較粗 的材料如剛 玉去除氧化 層，擦痕 砂眼，桔皮 等缺陷 中拋 用尖銳切削 材料去除表 面多余部分 獲得更好的 光澤 精拋 用軟性能的 磨料使金屬 表面獲得原 本的色澤 第四章 拋光工序原理及應用 4.3 機械拋光設備(大平面拋光機) 大平面拋光機 適合平面產品 第四章 拋光工序原理及應用 4.3 機械拋光設備(CAM拋光機) CAM拋光機 仿形 CAM機總體分為兩部分，一部分為拋光立柱上的電動機，通過傳送帶及鏈條帶動拋光輪旋轉，另一部分為底座上通過馬達帶動大圓盤進行旋轉。大圓盤共有9個工件，每兩個相隔40度，工作時圓盤間隔旋轉，每隔40度一卡，每個CAM機上有6個立柱，帶動6個拋光輪，通過拋光輪與工件上產品接觸摩擦進行拋光。 第四章 拋光工序原理及應用 4.4 平面研磨拋光原理