第六章溅射沉积技术.ppt

第六章 溅射沉积技术 李斌斌 溅射沉积技术 6.1 溅射的物理基础－－气体放电 6.2 溅射的工作原理 6.3 溅射方法和设备 6.4 离子束沉积 6.1 溅射的物理基础－－气体放电 1853年，Grove就观察到了溅射现象，发现在气体放电室的器壁上有一层金属沉积物，沉积物的成份与阴极材料的成份完全相同。但当时他并不知道产生这种现象的物理原因 。 1902年，Goldstein 才指出产生这种溅射现象的原因是由于阴极受到电离气体中的离子的轰击而引起的，并且他完成了第一个离子束溅射实验。 到了1960年以后，人们开始重视对溅射现象的研究，其原因是它不仅与带电粒子同固体表面相互作用的各种物理过程直接相关，而且它具有重要的应用，如核聚变反应堆的器壁保护、表面分析技术及薄膜制备等都涉及到溅射现象。 1969年，Sigmund 在总结了大量的实验工作的基础上，对Thompson的理论工作进行了推广，建立了原子线性级联碰撞的理论模型，并由此得到了原子溅射产额的公式。 1974年，H.H. Andersen 和H. L. Bay 研究了低能重离子辐照固体表面，可以产生非线性溅射现象，通常称为“热钉扎” 效应。 溅射和溅射沉积广泛用于刻蚀表面和沉积薄膜技术 。溅射，也被看作是溅射刻蚀，用于刻蚀半导体晶片，清洁表面，微型打磨，深度分布测量以及一系列表面要求细致、显微刻蚀的应用。 溅射沉积用于半导体晶片、磁性介质和磁头表面上的薄膜沉积，工件涂层，锋利工件表层以提高耐用性，塑料包内部以及汽车部件表面涂层，还有许多其他范围广泛的应用。 气体放电 直流电场作用下物质的溅射现象。 真空系统，在对系统抽真空后，充入一定压力的惰性气体，如氩气。 在正负电极间外加电压的作用下，电极间的气体原子将被大量电离，产生氩离子和可以独立运动的电子，电子在电场作用下飞向阳极，氩离子则在电场作用下加速飞向阴极—靶材料，高速撞击靶材料，使大量的靶材料表面原子获得相当高的能量而脱离靶材料的束缚飞向衬底。 气体放电过程 （1）开始：电极间无电流通过，气体原子多处于中性，只有少量的电离粒子在电场作用下定向运动，形成极微弱的电流。 （2）随电压升高：电离粒子的运动速度加快，则电流随电压而上升，当粒子的速度达饱和时，电流也达到一个饱和值，不再增加（见第一个垂线段）； （3）汤生放电：电压继续升高，离子与阴极靶材料之间、电子与气体分子之间的碰撞频繁起来，同时外电路使电子和离子的能量也增加了。离子撞击阴极产生二次电子，参与与气体分子碰撞，并使气体分子继续电离，产生新的离子和电子。这时，放电电流迅速增加，但电压变化不大，这一放电阶段称为汤生放电。 汤生放电后期称为电晕放电。 辉光放电 辉光放电：汤生放电后，气体会突然发生电击穿现象。 此时气体具备了相当的导电能力，称这种具有一定导电能力的气体为等离子体。 电流大幅度增加，放电电压却有所下降。导电粒子大量增加，能量转移也足够大，放电气体会发生明显的辉光。电流不断增大，辉光区扩大到整个放电长度上，电压有所回升，辉光的亮度不断提高，叫异常辉光放电，可提供面积大、分布均匀的等离子体。 弧光放电：电压大幅下降，电流大幅增加，产生弧光放电，电弧放电斑点，阴极局部温度大幅升高，阴极自身会发生热蒸发。 辉光放电是在真空度约为10-1Pa的稀薄气体中，两个电子之间加上电压时产生的一种稳定的自持放电。 溅射法基于荷能粒子轰击靶材时的溅射效应，而整个溅射过程都是建立辉光放电的基础之上。 气体放电过程示意图 6.2 溅射工作原理 所谓溅射是指荷能粒子轰击固体表面(靶)，使固体原子(或分子)从表面射出的现象。 这些被溅射出来的原子将带有一定的动能．并且具有方向性。 应用这一现象将溅射出来的物质沉积到基片或工型表面形成薄膜的方法称为溅射(镀膜)法。 溅射法属于物理气相沉积的一种，射出的离子大多呈原子状态．常称为溅射原子。 用于轰击靶的荷能粒子可以是电子、离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速并获得所需动能因此大多采用离子作为轰击粒子，该离子又被称为入射离子。 溅射法现在已经广泛地应用丁各种功能纳米薄膜的制备。溅射法又分为直流溅射、离子溅射、射频溅射和磁控溅射，目前多用后两种。 事实上对于所有实际应用，溅射几乎总是利用离子轰击，要么利用惰性气体离子如Ar+ 和 Kr+, 要么利用小分子离子如N2 +, O2+ 等等。 用能量相同的离子或原子轰击表面的产额实际上是一样的；物质溅射依赖于从入射粒子到表面原子的物质动量和动能的转移，而与离子电荷无关。 溅射示意图 带有足够能量的入射粒子撞击固体表面或表面附近原子，从而破坏价键，移走原子。 在此过程中，如果一个或更多原子从固体表面移走，就可将它们认做是被溅射原子。 离子轰击条件下，固体