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4.5_晶体生长
提拉法
下降法
焰熔法
导模法
熔体生长法 冷坩埚法
助溶剂法
水平区熔法
5、晶体生长 浮区法
基座法
降温法
恒温蒸发法
主
要 溶液生长法 温差水热法
的 晶体生长方法 循环流动法
晶 凝胶法
体
生 高压法
固相法 再结晶
长
方
真空蒸发镀膜法
法
升华法
分
气相法 气相外延生长法
类 化学气相沉积法
化学气相输送法
各种晶体生长方法的特点
熔体生长法：
生长速度快、晶体的纯度及完整性高，但不适用于冷却时会发生固
态相变的材料，且要采用合适的热处理工艺以消除热应力及部分缺陷 。
溶液生长法：
生长速度馒、但方法简单、培养的晶体应力小，均匀性良好，要求
有合适的溶剂相较高的控温精度。
固相法：不宜于生长大块单晶。
气相法：
生长速度慢，不宜生长大块晶体、用此法生长的薄膜晶体纯度高，完整
性好。
材料化学
材料制备化学
主要介绍：
提拉技术
方法: （1）熔体生长法 无坩埚悬浮区熔技术
焰熔技术
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