以脉冲化学气相沉积类钻碳薄膜之特性研究.pdfVIP

以脈衝化學氣相沉積類鑽碳薄膜之特性研究 以脈衝化學氣相沉積類鑽碳薄膜之特性研究 宋大崙 劉沖明 辛承諺 劉哲瑋 杜言濬 江文境 龍華科技大學工程技術研究所 摘要 類鑽碳薄膜(Diamond-like carbon) 薄膜是由 sp2 3 與 sp 鍵結組成的非晶質碳膜，類鑽 碳薄膜因為擁有優越的性能如高透光、高導熱、耐摩擦與低摩耗、耐化學腐蝕，而這些 特性可應用在工業與生醫材料領域上，因此類鑽碳薄膜被認為是具有潛力的材料。 本實驗使用脈衝化學氣相沉積系統，使用矽晶片與壓克力基材，在室溫下 CH氣體流 4 量 2 、5 、10sccm改變脈衝寬度： 10μs和脈衝週期： 110μs 、160μs 、210μs 與脈衝電壓 0.5kV 、 1.0kV 、1.5kV 、2.0kV 、2.5kV 、3.0kV及鍍膜時間 1 小時與3 小時條件下，探討不同壓力、 脈衝週期、脈衝電壓及鍍膜時間對於類鑽碳薄膜微結構 與機械特性特性之影響。 關鍵詞： 類鑽碳薄膜，脈衝電漿化學氣相沉積。 1.前言 deposition,Pulsed-PECVD,Pulsed-CVD)在 類鑽碳薄膜之研究至今已四十多年，目 以往研究中顯示，能降低成膜溫度及離子 前已有許多類鑽碳相關研究，類鑽碳薄膜 轟擊 [8] 以及有較高的沉積速率使生產更 2 3 具效率[9] 。 係由 sp 與 sp 鍵結所構成之非晶質碳膜， 因它表現出良好的化學特性和物理性質， 2.研究動機與目的 如高硬度 [1] 、耐摩擦[2]及抗腐蝕 [3] ，此 外，國內外文獻指出，類鑽碳薄膜的確具 壓克力的成型容易，因此可以製作許多 有生物相容性 [4] ，可應用在各種的工業領 產品，如各式產品面板、隱形眼鏡、生醫 材料、假牙…等，如果能在壓克力上沉積 域與生物醫學上。如防護塗層 [5] 、及人工 高硬度的類鑽碳薄膜，則可以提高產品的 關節 [6]及手術刀 [7]等方面上的應用。 應用範圍與其附加價值。矽晶片上沉積類 類鑽碳薄膜製作方法有許多種，例如電 鑽碳薄膜，在理論上較為容易，因此在本 漿輔助化學氣相沉積 (Plasma-enhanced 研究中，使用 N-type矽晶片 (Si)與壓克力 CVD ，PECVD) 、磁控濺鍍(Magnetron (Poly methyl methacrylate ，PMMA)上沉積 sputtering) 、離子束輔助沉積(Ion beam 類鑽碳薄膜，改變脈衝週期、脈衝電壓、 assisted deposition ，Ion-plating) 、脈衝式真 鍍膜時間與甲烷(Methane ，CH4)流量改變 壓力，觀察其改變對類鑽碳薄膜之影響， 空 陰 極 電 弧 (Pulsed vacuum arc 以及探討其類鑽碳薄膜之特性。 discharge) 、 感