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第五章其它纳米制造技术2学时wdb

主要内容 5.1 LIGA纳米制造技术原理 5.2 纳米压印技术原理 5.1 LIGA纳米制造技术原理 5.1.1 LIGA技术简介 1. LIGA技术的发展和应用 2. LIGA制造微器件的简要过程 3. LIGA技术使用的同步辐射X射线光源 5.1.2 LIGA光刻中用的X射线掩膜 1. X射线掩模的组成 2. X射线掩模的制造 5.1.3 LIGA工艺的制造技术 1. 抗蚀光刻胶 2. 光刻工艺 3. 超精细电铸成型 4. 实例 5.1.4 LIGA工艺的扩展 1. LIGA工艺制造阶梯状微结构 2. 加工球形表面的微结构 5.1.5 准LIGA工艺 1. LIGA技术的发展和应用 2. LIGA制造微器件的简要过程--1 LIGA制造高度很大的微零件 高度达数百微米(最大1000μm) 高宽比达200 ↑↑↑ 使很厚的光敏胶PMMA感光 ↑↑↑ 透射力极强的 深度同步辐射X射线 2. LIGA制造微器件的简要过程--2 LIGA制造工艺流程 3. LIGA技术使用的同步辐射X射线光源 深度同步辐射X射线——LIGA技术的关键。 ↓↓↓ 生成——由同步加速器或存储环内的高能相对论性电子发射出来。 这种电子由电磁场进行加速,加速方向与其运动方向垂直。 强度——目前强度最高的软X射线

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