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膜分离技术处理电镀废水的实验研究推荐
膜分离技术处理电镀废水的实验研究
膜分离过程是以选择性透过膜为分离介质,借助于外界能量或膜两侧存在的某种推动力(如压力差、浓度差、电位差等),原料侧组分选择性地透过膜,从而达到分离、浓缩或提纯的目的。膜分离过程是物理过程,不会发生相变,其实质是两种不同物质的分离。目前,膜分离技术受到广泛的注意且发展迅速,已发展成为一种重要的分离方法,在水处理、化工、环保等方面得到了广泛的应用[1]。
电镀废水一直是工业生产领域的一个重要污染源。电镀废水中污染物种类多,毒性大,危害严重;其中含有重金属离子或氰化物等,有些属于致癌、致畸或致突变的剧毒物质,对人类危害极大。另外,电镀废水含有大量的有价值金属,如果处理不得当,排入自然体系既污染环境,又浪费资源。
一般含电镀铜漂洗废水的含铜量在30~200mg/L左右,本文拟采用纳滤(NF)+反渗透(RO)的组合工艺对该废水进行浓缩,使浓缩液的铜离子浓度达到镀液的回用要求。
2.实验部分
2.1 实验设备
实验所用膜分离设备为自制设备,设备简图如图1所示
1:50L不锈钢料液桶??????? 2:进水球阀??????? 3:柱塞泵头(美国CAT泵头)
4:电机(美国 ABB电机)? 5:压力表(0~4MPa) 6:2540不锈钢膜壳?
7:浓水出口针阀? 调节此针阀可以调节系统的运行压力?
8:玻璃转子流量计(0~10GPM)
9:变频器? 调节变频器可以调节电机转速,从而调节进水压力和流量
10:排空球阀?????????????? 11:循环冷却水出入口
图1? 实验装置简图
2.2 实验用膜
纳滤膜??? GE公司DK4040F型抗污染纳滤膜
反渗透膜? GE公司SE4040F型抗污染反渗透膜
2.3 实验料液
实验料液参照苏州某台湾电路板(PCB)生产商提供的料液组分自行配制。料液配方为Cu2+:甲醛:次亚磷酸钠=1:2:4(摩尔比)。料液主要参数如下:
Cu离子浓度:109.8mg/L
COD:356.7mg/L
pH:5.41
配置料液所用的为RO产水,电导率小于3us/cm。
2.4 分析方法
铜离子的测定采用二乙氨基二硫代甲酸钠分光光度法。
CODCr的测定采用重铬酸钾法,按GB11914 1989进行。
3.实验结果与分析
本文考察了压力、温度、pH值和运行时间对膜分离效果的影响。
3.1 一级纳滤分离过程
3.1.1 运行压力(ΔP)对纳滤膜分离性能的影响
压力实验采用全回流方式,即浓水和产水全部回到料液桶,并打开循环冷却水,保证料液的浓度和温度恒定。在恒定的电机频率下,调节浓水针阀,可以使系统在不同的压力状态下运行。
运行压力(ΔP)对纳滤分离性能的影响曲线如图2、3、4所示。
?????????????? 图2膜通量(Jw)随压力(ΔP)变化曲线
图3 Cu离子截留率(R1)随压力(ΔP)变化曲线
图4 COD截留率(R2)随压力(ΔP)变化曲线
由图2可见,随着操作压力(ΔP)提高,纳滤产水通量(Jw)几乎呈线性增加。根据优先吸附——毛细孔流模型[3]:
????????????????????????? ?????????????? (1)
可知,膜透过量(Jw)和运行压力(ΔP)呈线性关系。因此增加操作压力(ΔP),膜透过量(Jw)则呈线性增加。
由图3可知,Cu离子截留率(R1)会随着压力(ΔP)增大而提高。当压力超过1.5 MPa时,Cu离子截留率(R1)随压力增大(ΔP)而降低。
由非平衡热力学模型的Spiegler-Kedem方程:
膜的真实截流率??? ????????????????????????(2)
式中? 。
可知,随着运行压力(ΔP)增大,膜的透过量(Jw)不断增大,F值减小,膜的真实截留率R’也随之增大。
式中??
设 则膜的表征截留率为
(3)
结合式(2)和(3),从式中不难看出,当运行压力(ΔP)增大,膜的真实截留率R’增大。当R’增大时,cp/cm比值减小,同时由于k减小(k值正比于Jw的0.81次方),导致R值上升。因此,表征截留率R也随着真实R’的增大而增大。
当压力超过1.5MPa时,Cu离子截留率(R1)随压力增大而降低。这一现象可以作如下解释:当压力大于15MPa时,膜面溶液流速降低,Cu离子向“滞流层”扩散的速度加快,导致“滞流层”的厚度和浓度增加,根据固定电荷模型(TMS)的原理,膜边界层的电解质浓度,膜面的有效电荷密度与溶液浓度比值ξ减小[2]。
根据式?????? ????????????????????(4)
其反射系数σ减小,又由式(2),可知其真实截留率下降,因此其表征截留率呈下降趋势。
以上解释有一个问题:即在压力小于1.5MPa时,也会因为压力增大以及流速减小而使“滞流层”的厚度和浓度增加。这
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