机电系统新技术概论课程论文-纳米科技的研究意义及应用研究报告文章.doc

2016 年 春 季学期研究生课程考核 （读书报告、研究报告） 考核科目 :机电系统新技术概论 学生所在院（系） :机电工程学院 学生所在学科 :机械设计及理论 学 生 姓 名 :**** 学 号 :***** 学 生 类 别 : 考核结果 阅卷人 纳米科技的研究意义及应用研究报告 纳米科技是二十世纪发展起来的交叉学科。有科学家预言，在21 世纪纳米材料将是最有前途的材料，纳米技术甚至会超过计算机和基因学，成为决定性技术[1]。纳米尺度介乎宏观和微观之间，白春礼院士从材料角度出发，认为纳米尺度应当定义为0.1nm-100nm；而国际计量委员会从计量学角度出发则将纳米尺度定义为1000nm。在纳米尺度下， 1纳米测量方法 纳米测量方法，主要可归纳为光学和非光学两大类测量技术[2]。纳米测量学在纳米技术中起着举足轻重的作用，纳米技术的发展离不开纳米测量技术。到目前为止，国内外发展的纳米测量方法种类很多，主要分两大类：一类是以扫描探针显微镜（SPM家族）为代表的非光学测量方法；一类是以各种激光干涉仪为代表的光学测量方法。 1.1扫描探针显微镜 1981年，IBM公司的物理学家G.Binning和H.Rohrer发明了扫描隧道显微镜（STM），成功的观察到了硅原子结构，在纳米科技发展中具有里程碑意义，使得人类第一次成功地进入原子尺度。扫描隧道显微镜主要是控制与探针和被测试样表面之间距离大小相关的隧道电流，来达到纳米测量的目的。此后，G.Binning在STM的理论基础上又发明了原子力显微镜（AFM），将观察对象由导体、半导体拓展到绝缘体。而在STM和AFM的理论基础上，基于探针在被测试样表面上进行横纵向扫描从而引起相关物理量变化来进行测量的原理，又相继研发了静电力显微镜、电容扫描显微镜等各种系列显微镜。因其均基于探针扫描原理，国际上将此类显微镜统称为扫描探针显微镜（SPM）。 目前，SPM已不仅仅局限于观察原子排列了，而已深深渗入微电子技术、生物技术、基因工程、生命科学、材料科学、表面技术等各种尖端科学领域。尤其是用STM成功地实现了对原子的操纵，将使人类从目前的微米尺度上对材料的加工迅速跨入到纳米尺度、原子尺度上的加工。 扫描探针显微镜纳米测量需要进一步解决的问题有以下几个方面：（1）探针针尖的工艺研究，包括提高针尖尖度和延长针尖寿命；（2）接触面处的接触距离，是SPM的关键的因素，合理的接触距离既有利于提高分辨率，也有利于延长探针寿命；（3）对于STM，偏置电压的控制也是研究的关键[3]。 1.2光学纳米测量方法 由于扫描探针显微镜最终还要由一些光学的方法来进行标定和校准，所以光学的纳米测量尤其受到国内外关注。光学纳米测量方法的实现，主要是应用激光干涉原理，包括双频激光干涉仪、激光偏振干涉仪等。干涉仪一般采用光程倍增和锁相放大等技术，在很大程度上提高其分辨度和准确度。 目前干涉仪中，双频激光干涉仪应用最为广泛。双频激光干涉仪采用外差干涉的原理，克服了普通单频激光器直流信号漂移的缺点，具有噪声小、抗干扰能力强等优点。激光干涉发展到双频激光干涉系统的阶段，可以说对仪器的性能起了一个飞跃。它结束了仅仅在实验室使用干涉仪的时代，开始真正地将激光干涉系统应用到车间和其它实际操作场地。 光学纳米测量方法还需要解决的问题有以下几个方面：（1）条纹细分、光程倍增技术、锁相放大等技术的完善；（2）干涉、衍射图像的计算机处理技术；（3）解决纳米测量环境因素的影响问题，如环境温度的影响、外界振动、电磁干扰的影响等。 2微纳米加工技术 4]。 平面工艺是最早开发的，也是目前应用最广泛的微纳米加工技术。平面工艺具有以下特点：（1）其微纳米结构成型方法主要是曝光方法；（2）平面工艺一般只能形成二维平面结构，或者通过多层二维结构叠加形成准三维结构；（3）平面工艺形成的是整体结构，而不是单个部件。平面工艺主要应用于集成电路制造，主要工艺过程包括：薄膜沉积，包括介质生成和金属沉淀；图形化，包括光刻和刻蚀；掺杂，包括热扩散掺杂和离子注入掺杂；热处理等。 探针工艺包括10nm的束直径，由聚焦离子束溅射刻蚀或化学气体辅助沉积可以直接在各种材料表面形成微纳米结构。探针工艺与平面工艺的最大区别是，探针工艺只能以顺序方式加工微纳米结构；而平面工艺是以平行方式加工，即大量微结构同时形成，因此平面工艺是一种适合于大生产的工艺。但探针工艺是直接加工材料，而不是像平面工艺那样通过曝光光刻胶间接加工。 模型工艺则是利用微纳米尺寸的模具复制出相应的微纳米结构。模型工艺包括纳米压印技术、塑料模压技术和模铸技术。纳米压印技术就是其中的一项很有希望的技术，其特点是具有超高分辨率、高产量、低成本。纳米压印最基本的程序包含两个主要步骤：图形复制