CN107099779-CN201710270559-一种提高光学器件激光损伤阈值和面形的IAD镀制方法.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 107099779 A (43)申请公布日 2017.08.29 (21)申请号 201710270559.X (22)申请日 2017.04.24 (71)申请人 青岛韬谱光学科技有限公司 地址 266000 山东省青岛市李沧区铜川路 16号 (72)发明人 杨波　魏清晨　 (74)专利代理机构 北京中北知识产权代理有限 公司 11253 代理人 段秋玲 (51)Int.Cl. C23C 14/46(2006.01) C23C 14/08(2006.01) C23C 14/10(2006.01) C23C 14/54(2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 (54)发明名称 一种提高光学器件激光损伤阈值和面形的 IAD镀制方法 (57)摘要 本发明属于光学镀膜技术领域，具体指一种 同时提高IAD镀制高反光学薄膜激光损伤阈值和 面形的镀制方法。其包括(1)基片加工，以紫外融 石英为基片，通过水域超光滑抛光技术完成基片 加工，使基片达到如下要求：粗糙度Ra值优于2 埃，面型优于λ/15，光洁度优于10/5。(2)基片清 洗，将步骤1中得到的基片放入超声波清洗原液 中浸泡，取出后采用去离子水冲洗，然后用连续 超声波槽进行超声波清洗，之后缓慢拉出水后， 采用射灯烘烤，再用酒精乙醚试剂擦拭干净，放 入真空室待镀。本发明大幅度提高激光损伤阈值 A 和面形，而且所镀制的膜层致密好、吸收小、散射 9 小、操作方法简单、产品指标稳定。 7 7 9 9 0 7 0 1 N C CN 107099779 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种提高光学器件激光损伤阈值和面形的IAD镀制方法，其特征在于，包括以下步 骤： (1)基片加工，以紫外融石英为基片，通过水域超光滑抛光技术完成基片加工，使基片 达到如下要求：粗糙度Ra值优于2埃，面型优于λ/15，光洁度优于10/5； (2)基片清洗，将步骤1中得到的基片放入超声波清洗原液中浸泡，取出后采用去离子 水冲洗，然后用连续超声波槽进行超声波清洗，之后缓慢拉出水后，采用射灯烘烤，再用酒 精乙醚试剂擦拭干净，放入真空室待镀； (3)真空镀膜，将经步骤(2)处理的基片放入真空室内后，进行抽真空处理，在真空度达 到5Pa时，对真空室及该基片进行加热处理，同时在30分钟内将温度均匀加热到150°，之后 进行恒温处理，待真空室内的真空度达到1.0*10-3Pa时，对基片开始实行离子源清洗至少 10分钟； 基片清洗过后，采用离子辅助沉积的方法沉积TAO 、HfO 和SiO ； 2 5 2 5 2 (4)镀后处理，将步骤(3)镀膜后的基片进行应力消除处理； (5)成品测试，对步骤(4)中得到的消除应力后的基片进行弱吸收和激光损伤阈值进行 测试，完成镀制工作。 2.根据权利要求1所述的一种提高光学器件激光损伤阈值和面形的IAD镀制方法，其特 征在于：步骤2中对基片采用超声波清洗原液浸泡至少15分钟。 3.根据权利要求2所述的一种提高光学器件激光损伤阈值和面形的IAD镀制方法，其特 征在于：步骤(3)中真空室中温度达到150°后，进行恒温40分钟处理。 4.根据权利要求3所述的一种提高光学器件激光损伤阈值和面形的IAD镀制方法，其特 征在于：步骤(3)中采用的离子源的参数为：高纯氩气，流量1