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制程冷却水PCW-SEMIORG
製程冷卻水(PCW)水路設計最佳化
周龍賓
2014.10.31
壹. 前言與摘要
顧名思義,製程冷卻水(Process Cooling Water)用於冷卻製程中發熱
的機器、儀器等設備。這些設備統稱為「製程機台」或「機台」。這
原本是非常簡單的水路系統,卻因為高科技產業蓬勃發展而變為非常
重要。
高科技產業例如晶圓(Wafer)與TFT-LCD產業機台造價極高,動輒上
億台幣。這麼精密昂貴的機台應該在潔淨室(Clean Room)裡穩定連續
運轉,源源不斷創造產值,最好永遠不需要停止運轉。
會 會 員 員 委 委 施 施 設 設 房 房 廠 廠 技 技 科 科 高 高 這些精密昂貴的高科技製程機台還是要靠最傳統的「水冷式散熱器」
冷卻。卻因其精密昂貴,故而對冷卻水的溫度、壓力、潔淨度要求甚
嚴。導致PCW系統設計與施工品質要求極高,著重在「穩定」,最
好永不生變。
2
壹. 前言與摘要
本文摘要如下:
一、 最穩定、節能而又廉價的PCW系統是「頂部開放系統(Top-Open
System ,以下簡稱T系統) 」。運轉管理/控制也最簡便。
二、 「底部開放系統(Bottom-Open System ,以下簡稱B系統) 」最耗能
也最耗材,造價最高,水質劣化最快,捲入空氣最多,停機落水空
管,運轉管理與控制最繁雜。
會 會 員 員 委 委 施 施 設 設 房 房 廠 廠 技 技 科 科 高 高
三、 「密閉系統(Closed System ,以下簡稱C系統) 」最大風險在「補水
失控超壓當機或爆管」與「排水失控失壓當機」。為了克服這風險
,運轉管理/控制很繁雜。
本文分別論述上述三種系統的設計綱領,也論述它們運轉的常態問題以
及潛在風險。
3
貳. 頂部開放PCW系統設計綱領
一. 系統流程與儀控
如圖(1)
二. 膨脹/蓄水槽放在系統管路頂部
水槽的水面略高於全系統管路之最高點,
會 會 員 員 委 委 施 施 設 設 房 房 廠 廠 技 技 科 科 高 高 且槽內水面以上開放(與大氣相通) 。有此
特徵之系統通稱為「頂部開放水路系統」
(Top-Open Hydronic System) 。
4
貳. 頂部開放PCW系統設計綱領
三. 溢流管與通氣管合一而且設置存水彎
優點為:
1. 存水彎的水封阻斷了槽內
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