第九章节钢铁的热处理工艺幻灯片.pptVIP

由于涂层材料的种类很多，所获得的涂层性能差异很大，可应用于各种材料的表面保护、强化及修复并满足特殊功能的需要。 热喷涂 二、气相沉积技术 气相沉积技术是指将含有沉积元素的气相物质，通过物理或化学的方法沉积在材料表面形成薄膜的一种新型镀膜技术。 根据沉积过程的原理不同，气相沉积技术可分为物理气相沉积(PVD) 和化学气相沉积(CVD)两大类。 物理气相沉积TiAl靶 1、物理气相沉积（PVD） 物理气相沉积是指在真空条件下，用物理的方法， 使材料汽化成原子、分子或电离成离子，并通过气相过程，在材料表面沉积一层薄膜的技术。 物理沉积技术主要包括真空蒸镀、溅射镀、离子镀三种基本方法。 磁控溅射镀膜设备 真空蒸镀是蒸发成膜材料使其汽化或升华沉积到工件表面形成薄膜的方法。 真空蒸镀TiN活塞环 真空蒸镀Al膜的塑料制品 溅射镀是在真空下通过辉光放电来电离氩气，氩离子在电场作用下加速轰击阴极，溅射下来的粒子沉积到工件表面成膜的方法。 溅射镀示意图 磁控溅射镀膜机 磁控溅射镀Al的塑料制品 离子镀是在真空下利用气体放电技术，将蒸发的原子部分电离成离子，与同时产生的大量高能中性粒 多弧离子镀膜机 子一起沉积到工件表面成膜的方法。 物理气相沉积具有适用的基体材料和膜层材料广泛；工艺简单、省材料、无污染；获得的膜层膜基附着力强、膜层厚度均匀、致密、针孔少等优点。 广泛用于机械、航空航天、电子、光学和轻工业等 离子镀产品 领域制备耐磨、耐蚀、耐热、导电、绝缘、光学、磁性、压电、滑润、超导等薄膜。 2、化学气相沉积(CVD) 化学气相沉积是指在一定温度下，混合气体与基体 CVD设备 表面相互作用而在基体表面形成金属或化合物薄膜的方法。 例如，气态的TiCl4与N2和H2在受热钢的表面反应生成TiN，并沉积在钢的表面形成耐磨抗蚀的沉积层。 由于化学气相沉积膜层具有良好的耐磨性、耐蚀性、耐热性及电学、光学等特殊性能，已被广泛用于机械制造、航空航天、交通运输、煤化工等工业领域。 经CVD处理的模具 经CVD处理的活塞环 三、三束表面改性技术 三束表面改性技术是指将激光束、电子束和离子束(合称“三束”)等具有高能量密度的能源(一般大于103W/cm2)施加到材料表面，使之发生物理、化学变化，以获得特殊表面性能的技术。 激光束加工 电子束加工 等离子束加工 进行快速加热和快速冷却，使表层的结构和成分发生大幅度改变（如形成微晶、纳米晶、非晶、亚稳成分固溶体和化合物等），从而获得所需要的特殊性能。 束流技术还具有能量利用率高、工件变形小、生产效率高等特点。 由于这些束流具有极高的能量密度，可对材料表面 离子束溅射系统 1、激光束表面改性技术 激光束能量密度高(106W/cm2)，可在短时间内将工件表面快速加热或融化, 而心部温度基本不变; 当激 光辐射停止后，由于散热速度快，又会产生“自激冷”。 激光表面改性技术主要应用于以下几方面: CO2激光器 ⑴ 激光表面淬火（激光相变硬化） 激光表面淬火件硬度高（比普通淬火高15~20%）、耐磨、耐疲劳，变形极小，表面光亮。 已广泛用于发动机缸套、滚动轴承圈、机床导轨、冷作模具等。 激光表面淬火件 激光表面淬火 ⑵ 激光表面合金化 预先用镀膜或喷涂等技术把所要求的合金元素涂敷到工件表面，再用激光束照射涂敷表面，使表面膜与基 体材料表层融合在一起并迅速凝固，从而形成成分与结构均不同于基体的、具有特殊性能的合金化表层。 已成功用于发动机阀座和活塞环、涡轮叶片等零件的性能和寿命的改善。 激光合金化热剪断刀 电子束表面改性技术是以在电场中高速移动的电子作为载能体,电子束的能量密度最高可达109W/cm2。 除所使用的热源不同 外，电子束表面改性技术与激光束表面改性技术的原理和工艺基本类似。 凡激光束可进行的处理，电子束也都可进行。 电子束表面改性装置 2、电子束表面改性技术 与激光束表面改性技术相比，电子束表面改性技术还具有以下特点: ①由于电子束具有更高的能量密度， 所以加热的尺寸范围和深度更大。 ②设备投资较低，操作较方便（无需象激光束处理那样在处理之前进行“黑化”）。 ③因需要真空条件，故零件的尺寸受到限制。 电子束物理气相沉积 3、离子注入表面改性技术 离子注入是指在真空下，将注入元素离子在几万至几十万电子伏特电场作用下高速注入材料表面，使材料表面层的物理、化学和机械性能发生变化的方法。 离子注入航空液压泵配流盘 离子注入设备 离子注入的特点是： 可注入任何元素，不受固溶度和热平衡的限制； 注入温度可控，不氧化、不变形； 注入层厚度可控，注入元素分布均匀； 注入层与基体结合牢固，无明显界面； 可同时注入多种元素，也可获得两层或两层以上性能不同的复合层。 离子注入机 通过离