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三、光电子能谱实验技术 1、XPS谱仪的基本结构 XPS谱仪的基本结构 XPS谱仪的基本结构 X射线,光子能量为1486.6? X射线,光子能量为1253.6 eV和Al K?在普通的XPS谱仪中,一般采用双阳极靶激发源。常用的激发源有Mg K eV。没经单色化的X射线的线宽可达到0.8 eV, 而经单色化处理以后,线宽可降低到0.2 eV,并可以消除X射线中的杂线和韧致辐射。但经单色化处理后,X射线的强度大幅度下降。 XPS谱仪的基本结构 类型:半球型分析器和筒镜型能量分析器。 半球型能量分析器由于对光电子的传输效率高和能量分辩率好等特点,多用在XPS谱仪上。 而筒镜型能量分析器由于对俄歇电子的传输效率高,主要用在俄歇电子能谱仪上。对于一些多功能电子能谱仪,由于考虑到XPS和AES的共用性和使用的则重点,选用能量分析器主要依据那一种分析方法为主。以XPS为主的采用半球型能量分析器,而以俄歇为主的则采用筒镜型能量分析器。 XPS谱仪的基本结构 XPS谱仪的基本结构 在X射线光电子能谱仪中必须采用超高真空系统,主要是出于两方面的原因。首先,XPS是一种表面分析技术,如果分析室的真空度很差,在很短的时间内试样的清洁表面就可以被真空中的残余气体分子所覆盖。其次,由于光电子的信号和能量都非常弱,如果真空度较差,光电子很容易与真空中的残余气体分子发生碰撞作用而损失能量,最后不能到达检测器。 XPS谱仪的基本结构 在X射线光电子能谱仪中,为了使分析室的真空度能达到3×10-8Pa,一般采用三级真空泵系统。前级泵一般采用旋转机械泵或分子筛吸附泵,极限真空度能达到10-2Pa;采用油扩散泵或分子泵,可获得高真空,极限真空度能达到10-8Pa;而采用溅射离子泵和钛升华泵,可获得超高真空,极限真空度能达到10-9Pa。这几种真空泵的性能各有优缺点,可以根据各自的需要进行组合。现在的新型X射线光电子能谱仪,普遍采用机械泵-分子泵-溅射离子泵-钛升华泵系列,这样可以防止扩散泵油污染清洁的超高真空分析室。 2、样品的制备技术 X射线能谱仪对分析的样品有特殊的要求,在通常情况下只能对固体样品进行分析。由于涉及到样品在真空中的传递和放置,待分析的样品一般都需要经过一定的预处理,分述如下: 1)样品的大小 由于在实验过程中样品必须通过传递杆,穿过超高真空隔离阀,送进样品分析室。因此,样品的尺寸必须符合一定的大小规范,以利于真空进样。对于块状样品和薄膜样品,其长宽最好小于10mm, 高度小于5 mm。对于体积较大的样品则必须通过适当方法制备成合适大小的样品。但在制备过程中,必须考虑处理过程可能对表面成分和状态的影响。 2、样品的制备技术 2) 粉体样品 对于粉体样品有两种常用的制样方法。一种是用双面胶带直接把粉体固定在样品台上,另一种是把粉体样品压成薄片,然后再固定在样品台上。前者的优点是制样方便,样品用量少,预抽到高真空的时间较短,缺点是可能会引进胶带的成分。后者的优点是可以在真空中对样品进行处理,如加热,表面反应等,其信号强度也要比胶带法高得多。缺点是样品用量太大,抽到超高真空的时间太长。在普通的实验过程中,一般采用胶带法制样。 2、样品的制备技术 3) 含有有挥发性物质的样品 对于含有挥发性物质的样品,在样品进入真空系统前必须清除掉挥发性物质。一般可以通过对样品加热或用溶剂清洗等方法。 4)表面有污染的样品 对于表面有油等有机物污染的样品,在进入真空系统前必须用油溶性溶剂如环己烷,丙酮等清洗掉样品表面的油污。最后再用乙醇清洗掉有机溶剂,为了保证样品表面不被氧化,一般采用自然干燥。 2、样品的制备技术 5 )带有微弱磁性的样品 由于光电子带有负电荷,在微弱的磁场作用下,也可以发生偏转。当样品具有磁性时,由样品表面出射的光电子就会在磁场的作用下偏离接收角,最后不能到达分析器,因此,得不到正确的XPS谱。此外,当样品的磁性很强时,还有可能使分析器头及样品架磁化的危险,因此,绝对禁止带有磁性的样品进入分析室。一般对于具有弱磁性的样品,可以通过退磁的方法去掉样品的微弱磁性,然后就可以象正常样品一样分析。 四、光电子能谱的应用 1、化学分析 2、固体表面相的研究 3、化合物结构的鉴定 31、化学分析 2、固体表面相的研究 在薄膜表面主要有Ti, N, C, O和Al元素存在。Ti, N的信号较弱,而O的信号很强。这结果表明形成的薄膜主要是氧化物,氧的存在会影响Ti(CN)x薄膜的形成。 2、固体表面相的研究 3、化合物结构的鉴定 在PZT薄膜表面,C 1s的结合能为285.0 eV和281.5eV,分别对应于有机碳和金属碳化物。有机碳是主要成分,可能是由表面污染所产生的。随着溅射深度的增加,有机碳的信号减弱,而金属碳化物的峰增强。这结果说明
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