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- 2018-03-27 发布于天津
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科技业工作内容与面试技巧-逢甲大学环境工程与科学学系
科技業工作內容與面試技巧 AUO/邱鼎瑋 學經歷 1995~1999 逢甲大學 (88年畢) 系上第一名畢業 系學會會長暨 17系主席 畢業生家長代表 (畢業獲得成績優良、服務優良兩項獎項) 1999~2001 成功大學碩士 (90年畢) 海峽兩岸交流論文發表 - 武漢大學 2003~2005 漢磊科技 (半導體) - 菁英專案 2005~ 友達光電 個人、團體金鑽獎 2010 副理 工作環境 Glass TFT Cs Contact Topside exposure---UV light Etch:Wet Etch for PVD film, and Dry Etch for CVD film Film:PVD (Physical Vapor Deposition ) or CVD (Chemical Vapor Deposition ) Coating PR (photo-resist) ? Exposure ? Develop Stripper:Remove PR Mask Array Process Flow TF ETCH PH TFT-LCD process flow Bottom Substrate Array Process Top Substrate CF Process Cell Process Module Process
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