反应磁控溅射法直接制备光催化纳米犜犻犗-中国表面工程.pdfVIP

第 卷 第 期 中 国 表 面 工 程 ２５ ４ Ｖｏｌ．２５ Ｎｏ．４ 　 　 　 　 　 年 月 ２０１２ ８ ＣＨＩＮＡＳＵＲＦＡＣＥＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ Ａｕｕｓｔ ２０１２ ｇ ： ／ ｄｏｉ１０．３９６９ ．ｉｓｓｎ２０１２．０４．００９ ｊ 反应磁控溅射法直接制备光催化纳米犜犻犗２薄膜 １ １ １ ２ 朱四美 ，张贵锋 ，侯晓多 ，瞧朝晖 （ 大连理工大学 材料科学与工程学院 三束材料改性教育部重点实验室，辽宁 大连 ； 上海宝钢集 １． １１６０２４ ２． 团 钢铁研究院，上海 ２０００５０） 摘 要：通过优化直流反应磁控溅射沉积工艺，在氩气和氧气气氛中溅射高纯钛靶，在玻璃和不锈钢衬底 　 上直接低温沉积出具有锐钛矿结构的 薄膜。通过 射线衍射仪（ ）、原子力显微镜（ ）和表面 ＴｉＯ２ Ｘ ＸＲＤ ＡＦＭ 轮廓仪分析发现，当氧的体积分数在 ５％ ２０％之间变化时，制得的ＴｉＯ 薄膜是致密的锐钛矿结构，具有典 ～ ２ 型的锐钛矿相（ ）、（ ）、（ ）、（ ）、（ ）的晶面特征峰，薄膜的晶粒尺寸随着氧含量的增加逐渐减 １０１ ００４ １１２ ２１１ ２２０ 小，其生长速率最快可达到 ／ 。在紫外光的照射下分解甲基橙实验表明，所制备的薄膜具有良好的 ６８ｎｍ ｍｉｎ 光催化分解有机物的能力。 关键词：ＴｉＯ２ 薄膜；反应磁控溅射；锐钛矿；氧浓度；光催化效应 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） ＴＧ１７４．４４ Ａ １００７９２８９２０１２０４００５６０６ 　　　 　　　 犘犺狅狋狅犮犪狋犪犾狋犻犮犜犻犗 犜犺犻狀犉犻犾犿狊犇犻狉犲犮狋犾犘狉犲犪狉犲犱犫 狔 ２ 狔 狆 狔 犚犲犪犮狋犻狏犲犕犪狀犲狋狉狅狀犛狌狋狋犲狉犻狀 犵 狆 犵 １ １ １ ２ ， ， ， ＺＨＵＳｉｍｅｉ ＺＨＡＮＧＧｕｉｆｅｎ ＨＯＵＸｉａｏｄｕｏ ＱＩＡＯＺｈａｏｈｕｉ ｇ （ ， ， ， １．Ｋｅ Ｌａｂｏｒａｔｏｒ ｏｆ