江苏省数码激光成像与显示工程研究中心-苏大维格.PDF

江苏省数码激光成像与显示工程研究中心 Center for Digital Optical Imaging and Displaying, Jiangsu EM 经江苏省科技厅、财政厅批准设立。中心面 向需求和行业的共性问题，对微纳光学制造、 激光成像方法与系统等进行创新和产业化应 用，解决关键技术与装备、新工艺和新材料方 面的核心技术问题。 研发与技术服务方向 微纳光学制造领域的关键技术、装备研发。涉 及高分辨率图形化制造、纳米压印装备、平板显示光学薄膜、LED 光子晶体、太阳能电池聚光薄 膜、微透镜阵列制造与应用。 在微纳图形化光刻设备和纳米压印方面，开展 工艺与新材料创新，研发微纳结构光学器件， 实现成果产业化；关注行业链的配套需求，开 展技术集成创新，为行业提供前瞻性工程技术 中试，为产业化提供关键技术支撑。 研发与技术服务部门 主任：陈林森；副主任：朱志坚、沈雁。 1、光刻系统与软件部：高端激光直写光刻系统软件、 图形处理和高效率光刻方法：着重进行超大幅面、微 纳结构图形的快速制造与控制技术的研究。 2 、先进显示技术部：针对平板显示行业需求，进行 新型光学薄膜器件的结构设计、器件制造工艺技术以 及相关产业化技术研究。 3、微纳结构制造装备部：研制超高精密激光光刻/ 刻蚀设备、新型纳米压印设备以及工程化应用。 4 、3D 图形与光学防伪部：研究高层光学视读解决方 案（微纳光学制造） (参见镭射设计花样) ，尤其注 重纳米结构光变色薄膜的特性研究和制造技术研发。 5、微纳技术应用部：结合行业需求，进行宽幅定位镭射包装、印刷材料的深度应用。 发展历程 02 年“江苏省数码激光图像与新型印刷工程技术研究中心”成立，06 年，通过江苏省科技厅、财政厅验收。 3500 平米研发实验室、6000 平米中试基地，1600 平米的超净实验室。 设有“大幅面精密激光光刻/刻蚀实 验室”、“精密模具与电铸实验室”、“微纳米压印实验室”、“大口径衍射光学器件实验室”、“1m×1m 幅面光 刻胶涂布实验室” 。配备了台阶仪、原子力显微镜、亮度色度仪、影像测试仪、光谱仪、尼康高倍显微镜、 355nm/ 405nm /441.6nm /532nm /系列型号各类可见与紫外激光器。具有光、机、电、算、新材料工艺一体 化研究与实验条件。 中心是国内运行最好的产学研合作平台之一，也是在薄膜材料上进行纳米光学结构制造的国内最 有特色和规模最大的研究中心。国内外学者、专家和省部领导多次视察维格光电公司的工程研究 中心，并给予赞赏与高度评价。 江苏省省长罗志军、省委常委苏州市委书记王荣、苏州市市长阎立；科技部党组书记副部长李学 勇、副部长曹建林、全国侨联主席林军等领导，前来视察和调研。新加坡科技局主席林泉宝博士、 俄罗斯科学院院士等也来维格光电公司访问考察。 江苏省省长一行视察（左）、新加坡科技局主席一行来访（右） 维格光电与苏州大学“光学工程”博士点学科共建了“数码激光成像与显示教育部工程研究中 心”、“江苏省先进光学制造高技术重点实验室”、“江苏省产学研联合培养研究生示范基地”。 研发特色 1、面向工程应用：研究大尺度子下微纳结构的新功能、新应用； 2、解决行业核心技术难题：研究微纳光学薄膜的新方法和新装备； 3、实现微纳结构新功能材料：研究成本可控的、规模化的中试生产技术； 4、高效生产技术：研究微纳光学器件的制造流程路线，节能、增效、低成本和高性能。 维格光电科技自主研制成功了一批具有显著特色的微纳结构制造设备和关键技术，取得一系列具 有国际先进水平的成果，实现了成果转化。 自主研究了“大型紫外激光直写光刻系统”、“纳米压印关键工艺与装备”、“激光转移材料产业化”、“手机导光薄膜生产线”和“激 光全息制版系统”并实现了行业应用，促进了中国相关行业的技术进步和参与国际竞争的能力。 代表性技术：“宽幅智能SLM 激光干涉光刻设备（HoloScanV）”、“四轴激光并行直写光刻系 统”、“高速激光光刻/刻蚀设备iGrapher”、“微区微纳米压印设备NanoMaker”、“无缝卷 对卷纳米压印设备”、“UV 纳米压印设备”，“大幅面光刻胶涂布设备”。 具有实现特征尺寸 100nm-200um、幅面40-inch 的微纳结构图形模具制造的能力。这些特色为开展行业合作和交流 奠定了基础。 • “微结构图形的高效光刻方法”， 教育部技