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奈米碳管电晶体之迟滞效应研究奈米碳管电晶体之迟滞效应研究
奈米碳管電晶體之遲滯效應研究奈米碳管電晶體之遲滯效應研究
奈米碳管電晶體之遲滯效應研究奈米碳管電晶體之遲滯效應研究
研究生研究生 :薛聖銘:薛聖銘 指導教授指導教授 :崔秉鉞:崔秉鉞
研究生研究生 ::薛聖銘薛聖銘 指導教授指導教授 ::崔秉鉞崔秉鉞
國立交通大學電子工程學系 電子研究所碩士班
摘要
自 1998 年起奈米碳管電晶體(CNTFET)首次被製作出來 , 其電性
如載子遷移率 、載子傳輸、截止頻率..等,已被許多研究單位廣泛地
研究 。其中碳管電晶體之遲滯效應也為研究之重點,因為此效應將會
影響元件之穩定度 。另一方面而言,遲滯效應顯示碳管電晶體可應用
在感應器或記憶體方面之可能性 。自2002 至今 ,研究學者對其遲滯
效應之產生機制有兩種看法:一為大氣中水氣吸附至碳管表面所產生
之遲滯效應 ,二為由於閘極偏壓產生之高電場導致碳管中之載子注入
介電層所致。
本論文在不同條件下,觀測碳管電晶體之遲滯效應。包括了增加
水氣及酒精之極性分子 、真空、不同溫度、覆蓋薄膜、照光等環境。
也製作了上閘極以及下閘極與源極和汲極電極重疊和不重疊結構之
碳管電晶體 。經由量測發現,當碳管(通道)暴露於大氣環境中 ,其
遲滯效應會由水分子主導 。增加極性分子其遲滯效應會有增強之效
果。但是當去除水分子之影響後 (如真空環境下),其遲滯效應將由
載子注入至介電層機制所致 。欲得到穩定之碳管電晶體,碳管(通道)
必須隔離極性分子。再者與碳管接觸之介電層必須為低缺陷密度之介
電層以及較低的閘極操作電壓 。
i
我們評估利用碳管電晶體遲滯效應作為記憶體元件之可行性。我
們發現碳管電晶體記憶體元件其電荷保留時間約數千秒 ,閘極與源極
和汲極電極不重疊結構之碳管電晶體其轉態時間可小於 0.4ms 。鑑於
轉態時間低於快閃記憶體 ,但電荷保留時間過低。然且其讀寫擦之次
6
數可高於 10 ,欲使用碳管電晶體作為記憶元件 ,尚有需多瓶頸待克
服。
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