光瞳滤波技术相关.pptVIP

用光瞳滤波技术提高 投影成像系统光刻分辨率研究;一、光刻技术的发展概况;? IC技术发展迅速 ? 遵循摩尔定则 ? 新产品性能、功能提高，价格降低 ? 推动计算机、信息、网络等技术的发展 得益于 微细加工技术尤其光学光刻的不断进步 ; 光刻成像系统像质评价的几个重要指标 ? 分辨率 ? 焦 深 ? 对比度 ;光学光刻及其发展 生产效率高、易实现高对准和套刻精度、掩模制作简单、工艺条件易掌握及良好的继承性---主流 其它非光学光刻技术 ? 极紫外光刻技术 ? X射线光刻技术 ? 电子束光刻技术 ?离子束投影光刻技术 ; 优化图形的波前工程方法; 光瞳滤波技术现状1 光瞳滤波技术的发展;主要研究内容; Image plane;空 间 滤 波 理 论;光栅物体经滤波仅让零频通过的成像分析;Short wave OPC OAI PSM High NA PF;;一、光刻技术的发展概况;滤波器的求解计算;★ 模拟退火算法（Simulated Annealing Algorithm） 模拟金属构件退火过程的一种算法 ★ 金 属 退 火 过 程 高温加热 粒子自由运动 逐渐降温 自由运动趋势减弱 最终形成最低能量的基态 ★ 各粒子经历：高 低能态；暂时，低 高能态 最终：稳定的基态 ; 金属退火过程启发 滤波器函数 ? 金属粒子 理想 - 实际像强：滤波函数能量 ? 粒子能量 设置参数 T ， T ?， 滤波函数将收敛于最小值能量，此时，理想与实际像强差最小，即得到理想的光刻图形，并求解到相应的最优滤波器;滤波器的求解计算;设 计 规 定;将约束（1）--（4）转化为一求和形式的目标函数:;滤波器的求解计算; Wafer ;滤波器的求解计算;优化求解滤波器;滤 波 器 求 解 流 程 图;滤波器的求解计算;λ=193nm；LW=0.1μm；σ=0.7；NA=0.7 ; ; ;λ=193nm；LW=0.2μm；σ=0.6；NA=0.7 ; ; ;一、光刻技术的发展概况;抗蚀剂;抗蚀剂;一、光刻技术的发展概况;一 ;1;涂胶;photo;一 ;一、光刻技???的发展概况; 结 束 语 ? 在部分相干光刻成像理论的基础上，深入研究光 瞳滤波提高光刻分辨率和改善焦深的物理机理 ? 提出SA求解最优滤波器的思想，设计算法、建立 数学模型、编制软件，大量模拟及分析 ? 制作滤波器 ? 建立实验系统，展开光刻对比实验，取得了与模 拟相符的实验结果。 ;创 新 点 1. 部分相干理论为基础，研究光瞳滤波物理机理。 2. 提出SA算法求解最优滤波器的思想，建立数学模 型，编制软件求解不同光刻条件的最优滤波器。 3. 设计和采用光瞳处滤波器易于取放的投影光刻物 镜，用激光直写在抗蚀剂上制作了相移滤波器， 开展了光瞳滤波投影光刻实验，获得了与模拟计 算相符的实验结果。 ;一