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2018-04-24 发布于天津
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详解光刻机-东西智库

行业研究机械设备证券研究报告 2018 年 03 月 12 日行机械设备业深度半导体设备深度报告（三）：详解光刻机— 行业评级推荐研究报 —半导体制造业皇冠上的明珠评级变动维持告主要观点华创证券研究所 1.光刻机是半导体制造业中最核心的设备证券分析师：李佳光刻环节实现芯片设计图从掩模到硅片上的转移，是芯片生产流程中的最关执业编号：S0360514110001 电话：021 键步骤，直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生产过程中需要进行邮箱：lijia@ 20-30 次的光刻，耗时占到制造环节的50% 左右，占芯片生产成本的 1/3。证券分析师：鲁佩光刻机是光刻工艺的核心设备，设计系统集成、精密光学、精密运动等多项执业编号：S0360516080001 先进技术，具备极高的技术含量和单台价值量，目前最先进的ASML EUV 光电话：021 刻机单价达到近一亿欧元。邮箱：lupei@ 2.光刻机的不断发展满足了芯片更小制程、更低成本的生产要求证券分析师：赵志铭芯片制造的发展方向是更小的制程以及更低的成本，这要求光刻机能不断实执业编号：S0360517110004 现更小的分辨率水平。按照所用光源划分，光刻机经历了五代产品的发展，电话：021 邮箱：zhaozhiming@ 每次光源的更替都是的制程水平有了极大的提升。目前最先进的光刻机采用 EUV 光源，已经可以实现7nm 制程芯片的生产。联系人：吴纬烨光刻机发展过程也伴随着工艺的不断创新改进，ASML 推出的双工作台系统、电话：021 邮箱：wuweiye@ 沉浸式光刻系统填补了在光源没有发展的情况下实现了制程水平和制造效率的提升，也奠定了其光刻机龙头的地位。联系人：娄湘虹 3.开放式创新模式下时代的选择铸就光刻机绝对龙头ASML 电话：021 ASML 能击败日本的“微影双雄”成长为光刻机领域的绝对龙头，根本原因