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德国ALLRESIST 公司是从事光刻用电子化学品研发、生 产和销售的专业公司，有丰富的经验和悠久的传统。可以为您 提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶，电子束光刻胶(抗蚀剂) 以及相关工艺中所需要的配套试剂。 北京汇德信科技有限公司作为德国ALLRESIST 的国内独 家代理，可以为国内用户提供高品质的光刻胶以及配套服务。  光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。  光刻胶包装规格灵活多样（如30ml, 100ml, 250ml, 500ml, 1L, 2.5L 等），适合各种规模 的生产、科研需求。  交货时间短。  可提供技术咨询服务，可为客户定制特殊用光刻胶。  紫外光刻胶（Photoresist） 各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off 胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA 用胶等。 各种波长: 深紫外(Deep UV)、I 线(i-line)、G 线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。 各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。  电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist） 电子束正胶：PMMA 胶，PMMA/MA 聚合物， LIGA 用胶等。 电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。  特殊工艺用光刻胶（Special manufacture/experimental sample ） 电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶），全息光刻用胶，长波曝光胶， 深紫外曝光胶等特殊工艺用胶。  配套试剂（Process chemicals） 显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。 北京市海淀区学院路30 号科大天工大厦B 座1408 室（100083） 电话：01021/22 传真：010 网址： 电邮：contact@ 正胶 AR-P 1200 喷涂用光刻胶（Spray Coating ） AR-P 1250 (铝刻蚀后结构) 适合喷涂（Spray Coating ）的正性光刻胶，高灵敏度。胶层表面非常平整,且可 很好的保护粗糙的衬底表面，可用于复杂工艺。 AR-P 3100 薄胶 高灵敏度光刻胶，胶膜薄且均匀。在玻璃和镀铬表面附着力好，可用于光学器件 加工、掩膜制作、激光干涉曝光等。另有，AR-P 3170 可以做出 100nm ，甚至 更小的线条（几十纳米）。 AR-P 3170 (激光干涉，70nm 线宽) AR-P 3200 厚胶 黏度大，可得到厚胶膜，厚度可达几十微米，甚至上百微米。胶膜覆盖能力好， 适合粗糙的 Wafer 表面涂胶，可很好的保护结构边缘。图形剖面边缘陡直。适 合做LIGA 或电镀工艺等。 AR-P 3500 ，AR-P 3500T 通用型光刻胶 AR-P 3210 (胶厚12μm，结构4μm) 适于集成电路制造中的掩膜加工。 高敏感、高分辨率且在金属和氧化物表面附 着力好。其中，AR-P 3500T 是针对 AR-P 3500 系列进行优化，而新研制的一 种光刻胶；性能和AR-P 3500 相似，同时还具备了良好的耐等离子刻蚀性能， 以及大的工艺宽容度。 AR-P 3700/3800 高分辨率光刻胶 可用于制作亚微米结构，如高集成电路等。甩胶层表面平整均匀，高敏感度，高 对比，良好的结构稳定性，工艺要求范围宽。AR-P 3840 为染色的光刻胶，可以 AR-P 3220(三维锥形结构) 降低驻波和散射等的影响。 AR-P 5300 单层Lift-Off 工艺用胶 Lift-off 工艺用胶，利用普通的光刻工艺便可很容易得进行剥离工艺。高敏感、高 分辨率， 且与金属和氧化物表面附着良好。 图形反转胶