原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
第八章_物理气相沉积技术
物理气相沉积技术;低维材料;What is the Deposition?;薄膜材料的制备;眼镜片的镀膜;镀膜技术的评价
薄膜性能
膜厚分布
附着力
沉积速度;一、 真空蒸发镀;（一）真空蒸发镀示意图;
１、蒸发
２、汽化粒子的输运 （源－基距＜平均自由程）
３、凝聚、生长过程
;1、蒸发过程;蒸发方式（蒸发源类型）;3、凝聚、生长过程;（三）真空蒸发镀工艺;立式蒸发镀膜机;蒸发镀膜制品;二、 溅射镀;(二）镀膜原理;离子束溅射;阴极溅射镀膜原理示意图;阴极溅射主要过程：;（三）膜生成的三大阶段：;靶面原子的溅射;（四）影响溅射量的因素：;Ar＋溅射不同靶
材的溅射率曲线;（五）溅射镀膜的优缺点;（六）常用阴极溅射方法;1、二极溅射镀膜;2、射频溅射镀膜;射频溅射镀膜的原理图;原理：;应用：
用来沉积各种合金膜、磁性膜、超声换能器的铌酸锂和钛酸钡压电薄膜和其它功能薄膜。
特点：（相对直流溅射）
1）射频溅射几乎可以用来沉积任何固体材料的薄膜；
2）获得的薄膜致密、纯度高；
3）与基片附着牢固；
4）溅射速率大、工艺重复性好。;3、磁控溅射镀膜（高速低温溅射）;JC500-2/D型磁控溅射镀膜机;磁控溅射镀膜制品;三、 离子镀膜;离子镀膜原理示意图;（二）常用离子镀膜方法;1、空心阴极离子镀(HCD);空心阴极离子镀(HCD)装置示意图;2、磁控溅射离子镀技术;磁控溅射离子镀原理示意图;（三）离子镀的优点：（与蒸发、溅射比较）;三种PVD镀膜机理比较;三种PVD镀膜技术性能比较;;小结：;作业：
1、试比较不同PVD法的机理及特点？
2、蒸发镀的主要过程？
3、磁控溅射离子镀的主要过程？
4、举一个PVD应用实例？
文档评论（0）