涡街流流量计的原理卡门涡街流的产生与现象为说明卡门涡街流.PDFVIP

渦街(流)流量計的原理 1．卡門渦街(流)的産生與現象 為說明卡門渦街(流)的産生，我們來考慮黏性流體繞流圓柱體的流動。當流體速 度很低時，流體在前駐點速度為零，來流沿圓柱左右兩側流動，在圓柱體前半部 分速度逐漸增大，壓力下降，後半部分速度下降，壓力升高，在後駐點速度又為 零。 這時的流動與理想流體流經圓柱體相同，無旋渦産生，如圖 A-(a)所示。隨著流 速增加，圓柱體後半部分的壓力梯度增大，引起流體附著圓柱體面層(簡稱附面 層)的分離，如圖 A-(b)所示。當流體的雷諾數 Re 再增大，達到 40 左右時，由 於圓柱體後半部附面層中的流體微團受到更大的阻滯，就在附面層的分離點 S 處産生一對旋轉方面相反的對稱旋渦。如圖 A-(c)所示。 在一定的雷諾數 Re 範圍內，穩定的卡門渦街(流)的及漩渦脫落頻率與流體流速 成正比。 圖 A 圓柱繞渦街(流)産生示意圖 2．卡門渦街(流)的穩定條件 並非在任何條件下産生的渦街(流)都是穩定的。馮-卡門在理論上已證明穩定的渦 街(流)條件是：渦街(流)