总复习学时.pptVIP

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  • 2018-04-28 发布于山西
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总复习学时

* 总复习 1. 烷烃: 命名规则:P19-20;螺环和桥环化合物的命名 构象 性质: 取代——自由基历程 小环不稳定,张力环 注意开环的位置、碳正离子的稳定性(产物马氏加成) 链状------丁烷的构象(交叉式比重叠式稳定) 环状------环己烷(椅式比船式稳定; 大的基团在e键比a键稳定) 注意顺反异构 烯烃: 命名:注意顺反异构体的命名。 过氧化物 亲电加成——马氏规则及反马氏规则 硼氢化 O3/Zn ------- 醛、酮 氧化 酸------酸+CO2 碱(稀、冷)——邻二醇 环氧化--------环氧乙烷 α氢的卤代——自由基历程 聚合反应 KMnO4 3. 炔 : 命名:注意烯炔共存,烯醇共存,炔醇共存 (不饱和醇的命名) 加氢反应:与烯相比,活性如何?(大于烯烃) 顺反如何? Na/NH3-----反 亲电加成:与烯相比,活性如何?(小于烯烃) 加水 酮、醛 硼氢化: 醛、酮 氧化:O3, KMnO4------- 羧酸 炔化物生成:炔化银、炔化铜(鉴别) Lindlar------顺 有何不同? 4. 二烯烃: 1,4-加成——共振结构的表达 双烯合成——注意构型保持;供电子基和吸电子基对反应活性的影响 6.芳烃: 命名 亲电取代(两类定位基)。 电子云密度的部位大有利于亲电反应 氧化、卤化(哪一个氢?) 休克尔规则——引申到杂环。 α—氢 7. 对映异构: D,L标记 (1)构型标记 R,S标记 (2) 手性C原子,手性分子的判别 根据对称因素(对称面、对称中心)判断 (3)手性分子的表达 (4)立体合成----内消旋产物和外消旋产物 透视式 费歇尔投影式 8.卤代烃 反应:亲核取代、消除反应、格氏反应(与CO2反应) 注意格氏反应不能有活泼氢(水、醇、氨、炔氢等) 机理:SN1(重排), SN2, E1(重排), E2(反式) SN1, SN2的影响因素: 烃基结构,离去基团,亲核试剂,溶剂 影响取代与消除的因素: 烃基结构,亲核试剂,溶剂,温度 9. 醇: 酸性:各种醇的酸性大小比较 取代 卤代烃【HX(重排), PX3, SOCl2,】 消去 烯烃(SN1有重排, SN2反式消除) 氧化 醛 酸 (注意氧化剂的选择,eg:CrO3不影响双键) 酸 酯(无机,有机) 邻二醇(HIO4氧化 ;醛Pinacol重排) RX水解 制备 C=O CH(OH) Grignard 反应——伯、仲、叔醇 10. 酚: 弱酸性:<H2CO3(各种取代酚的酸性大小比较) FeCl3显紫色(鉴定烯醇式结构) 取代:活化定位作用【卤化、硝化、磺化、付克烷基、酰基化(Fries 重排)】 氧化——醌 制备(异丙苯氧化、苯磺酸和氯苯碱熔融法等) 11. 醚 性质 Willimson 合成(怎样合成?) * 注意产物,合成物的选择 环醚 (1)与含活泼氢的化合物加成(反式),包括格氏试剂 (2)反应机理 生成釒 盐 羊 醚键的断裂( 怎样断裂?生成什么产物?) 酸催化——取决于碳正离子稳定性 碱催化——取决于空间效应 12.醛、酮 : 加HCN (生成α-羟基酸) 加NaHSO3(鉴别脂肪族甲基酮或环酮) 亲核加成 加ROH(保护C=O)

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