PVD法制备(Ti,Al)N涂层中残余应力对其质量的影响36.pdf

60 材料工程 ／2013年 2期 PVD法制备 (Ti，A1)N涂层 中残余 应力对其质量的影响 EffectsofResidualStressonQualityof(Ti。A1)N CoatingsDepositedbyPVD M ethod 吴 化 ，陈 涛 ，宋 力 (长春工业大学 先进结构材料教育部重点实验室，长春 130012) W U Hua，CHEN Tao。SONG Li (KeyLaboratoryofAdvancedStructuralM aterials(M inistryofEducation)， ChangchunUniversityofTechnology，Changchun130012，China) 摘要 ：在 国产离子镀和空心阴极离子镀复合镀膜机上 ，通过改变脉冲偏压值制备了(Ti，A1)N涂层 。用 x射线衍射仪对 涂层的相组成进行 了检测分析 ，并通过测得的衍射谱线计算了 (Ti，A1)N涂层 中的残余应力值 ；扫描 电镜观察涂层表面 微观形貌显示涂层表面存在 “大颗粒”现象；用材料表面微纳米力学测试系统检测 了涂层与基体 间的结合力和涂层 的硬 度值 。对涂层中残余应力与质量和性能之间关系的研究分析表 明：(Ti，A1)N涂层 中存在着残余压应力，且随脉冲偏压 值的增加其值有先减小后增大的趋势；涂层 中 “大颗粒”现象随脉冲偏压值 的提高能够显著得到减轻 ，涂层与基体 间结合 力得到提高，涂层 的硬度值增大，涂层质量和力学性能均得到改善 。 关键词：(Ti，A1)N涂层；残余应力；x射线衍射法；大颗粒 doi：10．3969／j．issn．1001—4381．2013．02．012 中图分类号 ：TB302．1；TB333 文献标识码 ：A 文章编号 ：i001—4381(2013)02—006005 Abstract：The(Ti，A1)N coatingsweredepositedatdifferentbiasvoltagebyionplatingassistedwith hollow cathodefacilityproducedinChina．X—raydiffractionmethodwasusedtostudythecomposition andresidualstressofthe(T ，A1)N coatings．Thereweremacro—particleson surfaceof(Ti，A1)N coatingsanalyzedbySEM ．Theadhesionandhardnessof(Ti，A1)N coatingsweretestedbyuniversal nano／micromaterialtester．Theresearchresultsshow thattheresidua1compressivestressexistedin the(Ti，A1)N coatings．Followingtheaugmentofbiasvoltage。theresidualstressvaluedecreased firstandthenincreased．Themacro—particlesoncoatingsbecameweakennotably，theadhesionand hardnessof(Ti，A1)N coatingsincreased，thequalityandmechanicalpropertiesofthecoatingswere improvedwhenthevalueofbiasvoltageenhanced． Keywords：(Ti，A1)N coating；residualstress；X—raydiffractionmethod；macro—particle 通过PVD方法在材料表面制备